純スピン流制御型spin-MOSFETの創製
純スピン流制御型spin-MOSFETの創製
批准号:
10J02787
负责人:
安藤 裕一郎
金额:
$1.22万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2010
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2010 至 2012
中文摘要
高品質CoFe/Si構造を用いて半導体中に蓄積したスピンを電気的に検出する3端子ハンル効果測定を行ったところ,スピン蓄積に起因する明瞭なハンル信号を得ることに成功した.また,ハンル信号の絶対値は印加電流の極性に強く依存していることが判明した.これは注入される電流のスピン偏極率が極性依存性を有しているのではなく,Si中の蓄積スピンを検出する為の電気的検出感度に極性依存性があることに起因していることが明らかとなった.また,この検出感度は印加電流の極性依存性以外にも温度依存性をも有していることが判明した.このことはスピン信号の高温検出の実現には,印加電流のスピン偏極率以外に検出感度も考慮する必要があることを示唆している.これらを包括的に検討した結果,室温でのスピン信号の検出に成功した.スピンデバイスにゲート機能を付加するためにSOI (Silicon on Insulator)基板上にCoFeを単結晶成長した構造を用いバックゲート型のspin-MOSFET素子を作製した.この素子を用い,室温において,3端子ハンル効果測定を行ったところ,明瞭なハンル信号を得ることに成功した.一定電流の条件下でハンル信号の絶対値とゲート電圧の関係を調査したところ,ゲート電圧の増加に伴い,信号の絶対値は単調減少していることが判明した.これはゲート電圧の増加に伴い,Si中にキャリアとして存在する電子の量が増大した結果,一定のスピン蓄積電圧を誘起するのに必要なスピンの量が増大し,スピン信号が減少したものと考えられる.このようなゲート電圧によるスピン信号の変調原理は世界でも初めての報告である.
英文摘要
高品質CoFe/Si構造を用いて半導体中に蓄積したスピンを電気的に検出する3端子ハンル効果測定を行ったところ,スピン蓄積に起因する明瞭なハンル信号を得ることに成功した.また,ハンル信号の絶対値は印加電流の極性に強く依存していることが判明した.これは注入される電流のスピン偏極率が極性依存性を有しているのではなく,Si中の蓄積スピンを検出する為の電気的検出感度に極性依存性があることに起因していることが明らかとなった.また,この検出感度は印加電流の極性依存性以外にも温度依存性をも有していることが判明した.このことはスピン信号の高温検出の実現には,印加電流のスピン偏極率以外に検出感度も考慮する必要があることを示唆している.これらを包括的に検討した結果,室温でのスピン信号の検出に成功した.スピンデバイスにゲート機能を付加するためにSOI (Silicon on Insulator)基板上にCoFeを単結晶成長した構造を用いバックゲート型のspin-MOSFET素子を作製した.この素子を用い,室温において,3端子ハンル効果測定を行ったところ,明瞭なハンル信号を得ることに成功した.一定電流の条件下でハンル信号の絶対値とゲート電圧の関係を調査したところ,ゲート電圧の増加に伴い,信号の絶対値は単調減少していることが判明した.これはゲート電圧の増加に伴い,Si中にキャリアとして存在する電子の量が増大した結果,一定のスピン蓄積電圧を誘起するのに必要なスピンの量が増大し,スピン信号が減少したものと考えられる.このようなゲート電圧によるスピン信号の変調原理は世界でも初めての報告である.
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DOI:
10.1063/1.3607480
发表时间:
2011-04
期刊:
Applied Physics Letters
影响因子:
4
作者:
[Y. Ando;K. Kasahara;K. Yamane;Y. Baba;Y. Maeda;Y. Hoshi;K. Sawano;M. Miyao;K. Hamaya]
通讯作者:
Y. Ando;K. Kasahara;K. Yamane;Y. Baba;Y. Maeda;Y. Hoshi;K. Sawano;M. Miyao;K. Hamaya
Source-Drain Engineering using Atomically Controlled Heterojunctions for Next-Generation SiGe Transistor Applications
使用原子控制异质结的源漏工程用于下一代 SiGe 晶体管应用
DOI:
--
发表时间:
2011
期刊:
Japanease Journal of Applied Physics
影响因子:
--
作者:
[K.Hamaya, Y.Ando, et al.]
通讯作者:
et al.
Si上における強磁性シリサイドFe_3Siの高品質形成とSiへのスピン注入
Si 上高质量形成铁磁硅化物 Fe_3Si 并自旋注入 Si
DOI:
--
发表时间:
2011
期刊:
影响因子:
--
作者:
[安藤, 他]
通讯作者:
他
Pure spin current injection into polycrystalline Gd
纯自旋电流注入多晶 Gd
DOI:
--
发表时间:
2011
期刊:
影响因子:
--
作者:
[S.Nonoguchi, Y.Ando, et.al.]
通讯作者:
et.al.
Temperature evolution of spin accumulation detected electrically in a nondegenerated silicon channel
DOI:
10.1103/physrevb.85.035320
发表时间:
2012-01
期刊:
Physical Review B
影响因子:
3.7
作者:
[Y. Ando;K. Kasahara;S. Yamada;Y. Maeda;K. Masaki;Y. Hoshi;K. Sawano;M. Miyao;K. Hamaya]
通讯作者:
Y. Ando;K. Kasahara;S. Yamada;Y. Maeda;K. Masaki;Y. Hoshi;K. Sawano;M. Miyao;K. Hamaya
共 35 条
ポスト2nm世代スピントロクスデバイス実現に向けた材料・デバイス・回路技術
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批准号:22H00214
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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资助金额:$27.71万
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财政年份:2022
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负责人:安藤 裕一郎
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依托单位:
ホイスラー合金を用いた新規積層型熱電素子の低温作製
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批准号:24860038
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项目类别:Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
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资助金额:$1.91万
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财政年份:2012
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负责人:安藤 裕一郎
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依托单位:
原子間結合制御技術によるスピン偏極型シリサイド/半導体の創製とデバイス応用
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批准号:08J02014
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$0.77万
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财政年份:2008
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负责人:安藤 裕一郎
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依托单位:
海外基金