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A study on the formation mechanism of internal stress in electrodeposition within the framework of dynamic scaling theory

动态尺度理论框架下电沉积内应力形成机制研究

基本信息

批准号：
22560025
负责人：
SAITOU Masatoshi
金额：
$ 1.91万
依托单位：
University of the Ryukyus
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2010
资助国家：
日本
起止时间：
2010 至 2012
项目状态：
已结题

项目摘要

In the framework of dynamic scaling theory, the internal stress deposited by a pulse current technique is found to be described by the relaxation in which process adatoms on the film surface move to reduce the grain boundary energy. In addition, using a concept of the quenched noise that acts as obstacles that impede the movement of the adatom, the order parameter becomes dependent on the content of additives and the internal stress is found to comprise two terms, one dependent on the additive content and the other independent of the additive content. In-situ observation of the time-dependent internal stress reveals the presence of incubation time in which no internal stress occurs and the oscillatory behavior of the internal stress that approaches a fixed value.

在动态标度理论的框架下，发现由脉冲电流技术沉积的内应力可以用薄膜表面吸附原子移动以降低晶界能的弛豫过程来描述。此外，使用的概念的淬火噪声，作为阻碍的吸附原子的运动的障碍，顺序参数变得依赖于添加剂的含量和内部应力被发现包括两个术语，一个依赖于添加剂的含量和其他独立的添加剂的含量。随时间变化的内应力的原位观察揭示了存在的孵化时间，其中没有内应力发生和振荡行为的内应力，接近一个固定值。

项目成果

期刊论文数量（0）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Internal StressDeviated from a Scaling Law Owing to an Additive Agent

由于添加剂而导致内应力偏离缩放定律

DOI：
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
0
作者：
T. Oshiro;M. Saitou
通讯作者：
M. Saitou

Scaling Behavior of Internal Stress in Gold Thin Films

金薄膜内应力的结垢行为

DOI：
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
0
作者：
M. Machida;M. Saito
通讯作者：
M. Saito

Scaling Behavior of Internal Stress in Gold Thin

金薄片内应力的结垢行为

DOI：
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
0
作者：
M. Machida;M. Saitou
通讯作者：
M. Saitou

Thermal roughening transition of a dissolved nickel surface

溶解镍表面的热粗糙化转变

DOI：
10.1088/0022-3727/44/45/455302
发表时间：
2011
期刊：
J. Phys. D: Appl. Phys
影响因子：
0
作者：
Maeda;K.;Kawaida;N.,Tsudome;R.;Sakai;K.;Ikari;T..;津田哲平，櫻井一貴，岡田亘太郎，斎藤秀俊，伊藤治彦;M. Saitou
通讯作者：
M. Saitou

Internal Stress in Nickel Films Electrodeposited by a Pulse Current Technique

脉冲电流技术电沉积镍膜的内应力