Damage-free etching of organic materials with mesoscopic cluster beams

利用介观簇束对有机材料进行无损伤蚀刻

• 批准号: 23310080
• 负责人: TOYODA Noriaki
• 金额: $ 12.06万
• 依托单位: University of Hyogo
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
• 财政年份: 2011
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2011-04-01 至 2014-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23310080/
• 关键词: クラスター; 有機材料; ナノ加工; ダメージフリー; クラスターイオン; 有機電子材料

Damage-free processing of organic materials with mesoscopic cluster ion beam was developed using pickup cell and by controlling charge state, cluster-size, and environment gas during irradiations. An in-situ XPS system connected to cluster ion beam system was used for damage evaluation of organic materials. It has been clarified that low-ionization voltage is required to suppress formation of multiply charged cluster ions. Besides, large cluster ions, and control of environment gas during irradiation is effective for low-damage processing of organic materials.

利用介观团簇离子束，通过控制电荷状态、团簇尺寸和辐照过程中的环境气体，实现了有机材料的无损伤加工。本文采用与团簇离子束系统相连的原位XPS系统对有机材料进行损伤评价。已经阐明，需要低电离电压来抑制多电荷团簇离子的形成。此外，大团簇离子和辐照过程中环境气体的控制对于有机材料的低损伤加工是有效的。

项目成果

Gas Cluster Ion Beam Technology for Nano-Fabrication

用于纳米制造的气体团簇离子束技术

• DOI: 10.4028/www.scientific.net/ast.82.1
• 发表时间: 2012
• 作者: N. Toyoda;I. Yamada
• 通讯作者: I. Yamada

Magnetic properties of Fe7Co3 films with gas cluster ion beam irradiations

气体团簇离子束辐照 Fe7Co3 薄膜的磁性能

• DOI: 10.1063/1.4797475
• 发表时间: 2013
• 期刊: Journal of applied physics
• 影响因子: 3.2
• 作者: N.Toyoda;A.Fujimoto;I.Yamada
• 通讯作者: I.Yamada

Gas cluster ion beam etching of metals with pick-up cell

使用拾取池对金属进行气体团簇离子束蚀刻

• 发表时间: 2012
• 作者: M.Yamamoto;K.Wakabayashi;Shuji Ogata;N. Toyoda and I. Yamada
• 通讯作者: N. Toyoda and I. Yamada

Evaluation of charge state of gas cluster ions by means of individual crater observations

通过单个弹坑观测来评估气体团簇离子的电荷状态

• 发表时间: 2013
• 期刊: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section B
• 作者: N. Toyoda;I. Yamada
• 通讯作者: I. Yamada

Nano-scale surface modification and ion induced reactions with gas cluster ion beams

纳米级表面改性和气体团簇离子束离子诱导反应

• 发表时间: 2013
• 作者: Obraztsova E.A.;Shtansky D.V.;Sheveyko A.N.;Yamaguchi M.;Kovalskii A.M.;Mevellec J.-Y.;Lefrant S.;Golberg D.;尾形修司;T.Iida;坂口和樹;田中啓文，洪流，田中大輔，小川琢治;豊田 紀章
• 通讯作者: 豊田 紀章