Synthesis of diamond film by in-liquid plasma CVD

液内等离子体CVD法合成金刚石薄膜

• 批准号: 23360326
• 负责人: TOYOTA Hiromichi
• 金额: $ 12.23万
• 依托单位: Ehime University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
• 财政年份: 2011
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2011-04-01 至 2015-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23360326/
• 关键词: プラズマ加工; 材料加工・処理; 結晶成長; 表面・界面物性

项目成果

プラズマ発生装置

等离子发生器

• 发表时间: 2008

A practical electrode for microwave plasma processes

用于微波等离子体工艺的实用电极

• 发表时间: 2013
• 期刊: International Journal of Materials Science and Applications
• 作者: H. Toyota;S. Nomura;S. Mukasa
• 通讯作者: S. Mukasa

Experimental Investigation of Optimal Conditions for High-Speed Diamond Synthesis by In-liquid Plasma CVD Method

液相等离子体CVD法高速合成金刚石最佳条件的实验研究

• 发表时间: 2011
• 作者: Hiromichi Toyota;Shoma Ikeda;Shinfuku Nomura;Shinobu Mukasa;豊田 洋通;H.Toyota
• 通讯作者: H.Toyota

大気圧プラズマの生成制御と応用技術

常压等离子体发生控制及应用技术

• 发表时间: 2006
• 作者: H.Fujiyama;D.Kurogi;Y.Furue;H.Uchida;Y.Nitta;T.Nakatani;F.Iza;J.K.Lee;K. Takaki;小駒益弘監修(高木浩一分筆)
• 通讯作者: 小駒益弘監修(高木浩一分筆)

High speed deposition of diamond film using in liquid-plasma CVD method

液体等离子体CVD法高速沉积金刚石薄膜

• 发表时间: 2013
• 作者: Hiromichi Toyota;Shoma Ikeda;Shinfuku Nomura;Shinobu Mukasa
• 通讯作者: Shinobu Mukasa