Structures and band gaps of similar silicon oxide monolayers formed on a metal and a semiconductor

在金属和半导体上形成的类似氧化硅单层的结构和带隙

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Anomalous structural evolution and √3x√3 reconstruction of a clean Si(111) surface observed after thermal desorption of thallium
铊热解吸后观察到的干净 Si(111) 表面的异常结构演化和 √3x√3 重建
  • DOI:
    10.1116/1.4913199
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    P. Kocan;O. Krejci;H. Tochihara
  • 通讯作者:
    H. Tochihara
Adsorption of PTCDA on Si(001)-2 x 1 surface
PTCDA 在 Si(001)-2 x 1 表面上的吸附
  • DOI:
    10.1063/1.4906118
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T. Suzuki;Y. Yoshimoto;K. Yagyu;H. Tochihara
  • 通讯作者:
    H. Tochihara
Fabrication of a single layer grapheme by copper intercalation on a SiC(0001) surface
SiC(0001)表面插铜制备单层石墨烯
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4
  • 作者:
    Kazuma Yagyu;Takayuki Tajiri;Atsushi Kohno;Kazutoshi Takahashi;Hiroshi Tochihara;Hajime Tomokage;Takayuki Suzuki
  • 通讯作者:
    Takayuki Suzuki
Si 2p Core Level Shifts of the Epitaxial SiON Layer on a SiC(0001), Studied by Photoemissin Spectroscopy
通过光电发射光谱研究 SiC(0001) 上外延 SiON 层的 Si 2p 核心能级偏移
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T. Shirasawa;S. Tanaka;T. Muro;Y. Tamenori;Y. Harada;T. Tokushima;T. Kinoshita;S. Shin;T. Takahashi;H. Tochihara
  • 通讯作者:
    H. Tochihara
A dangling-bond free interface: the silicon-oxynitride epitaxial ultrathin film on SiC(0001).
无悬挂键界面:SiC(0001) 上的硅氮氧化物外延超薄膜。
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    H. Tochihara;T. Shirasawa
  • 通讯作者:
    T. Shirasawa
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