Structures and band gaps of similar silicon oxide monolayers formed on a metal and a semiconductor
在金属和半导体上形成的类似氧化硅单层的结构和带隙
基本信息
- 批准号:23540372
- 负责人:
- 金额:$ 3.16万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2011
- 资助国家:日本
- 起止时间:2011-04-28 至 2015-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
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专利数量(0)
Anomalous structural evolution and √3x√3 reconstruction of a clean Si(111) surface observed after thermal desorption of thallium
铊热解吸后观察到的干净 Si(111) 表面的异常结构演化和 √3x√3 重建
- DOI:10.1116/1.4913199
- 发表时间:2015
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:P. Kocan;O. Krejci;H. Tochihara
- 通讯作者:H. Tochihara
Adsorption of PTCDA on Si(001)-2 x 1 surface
PTCDA 在 Si(001)-2 x 1 表面上的吸附
- DOI:10.1063/1.4906118
- 发表时间:2015
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Suzuki;Y. Yoshimoto;K. Yagyu;H. Tochihara
- 通讯作者:H. Tochihara
Fabrication of a single layer grapheme by copper intercalation on a SiC(0001) surface
SiC(0001)表面插铜制备单层石墨烯
- DOI:
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:4
- 作者:Kazuma Yagyu;Takayuki Tajiri;Atsushi Kohno;Kazutoshi Takahashi;Hiroshi Tochihara;Hajime Tomokage;Takayuki Suzuki
- 通讯作者:Takayuki Suzuki
Si 2p Core Level Shifts of the Epitaxial SiON Layer on a SiC(0001), Studied by Photoemissin Spectroscopy
通过光电发射光谱研究 SiC(0001) 上外延 SiON 层的 Si 2p 核心能级偏移
- DOI:
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Shirasawa;S. Tanaka;T. Muro;Y. Tamenori;Y. Harada;T. Tokushima;T. Kinoshita;S. Shin;T. Takahashi;H. Tochihara
- 通讯作者:H. Tochihara
A dangling-bond free interface: the silicon-oxynitride epitaxial ultrathin film on SiC(0001).
无悬挂键界面:SiC(0001) 上的硅氮氧化物外延超薄膜。
- DOI:
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:H. Tochihara;T. Shirasawa
- 通讯作者:T. Shirasawa
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电子激发引起的低温下半导体表面出现的非平衡相
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$ 3.16万 - 项目类别:
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- 批准号:
22K05052 - 财政年份:2022
- 资助金额:
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