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Establishment of hybrid ring-shaped hollow discharge and application to large-diameter high-density plasma source

混合环形空心放电的建立及其在大直径高密度等离子体源中的应用

基本信息

批准号：
23540577
负责人：
OHTSU Yasunori
金额：
$ 3.24万
依托单位：
Saga University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2011
资助国家：
日本
起止时间：
2011 至 2013
项目状态：
已结题

项目摘要

Radio frequency(RF) capacitively coupled discharge plasma is widely used for the preparation of functional thin films which play an important role for solar panel and liquid crystal display devices. However, the RF capacitively coupled plasma has a weak point that the productivity of the thin films is very low. Thus, high-density plasma source is required from the microelectronic industry. In this work, a novel plasma production method is proposed and is confirmed. The requirement is attained by the combination between ring-shaped hollow electrode and the coating of high secondary electron emission material to the electrode. In future, this proposal can be attained by developing the scale-up.

射频电容耦合放电等离子体技术被广泛应用于制备太阳能电池板和液晶显示器件等功能薄膜。然而，射频电容耦合等离子体具有一个弱点，即薄膜的生产率非常低。因此，微电子工业需要高密度等离子体源。在这项工作中，提出了一种新的等离子体生产方法，并得到证实。通过环形空心电极与高二次电子发射材料涂层的结合，达到了这一要求。今后，这一提议可以通过扩大规模来实现。

项目成果

期刊论文数量（0）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

アルゴン・水素混合ガスを用いた高周波リング状ホロ－放電プラズマ特性

使用氩/氢混合气体

DOI：
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
0
作者：
大津康徳;川﨑裕次郎;武田賢治
通讯作者：
武田賢治

Influence of trench shape of ring-shaped hollow electrode on high-density capacitive coupled plasma

环形空心电极沟槽形状对高密度电容耦合等离子体的影响

DOI：
发表时间：
2011
期刊：
Proc. Plasma Conference
影响因子：
0
作者：
Y.Ohtsu;Y.Yahata;J.Kagami;Y.Kawashimo;T.Takeuchi
通讯作者：
T.Takeuchi

Production of radio frequency magnetron plasma by monopole arrangement of magnets for target uniform utilization

通过磁体单极排列产生射频磁控管等离子体以实现靶均匀利用

DOI：
发表时间：
2014
期刊：
Vacuum
影响因子：
4
作者：
Y.Ohtsu;M.Shigyo;M.Akiyama;T.Tabaru
通讯作者：
T.Tabaru

Wood surface treatment by atmospheric RF capacitively coupled plasma jet

通过大气射频电容耦合等离子体射流进行木材表面处理

DOI：
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
0
作者：
Hernández P.A.;Mori T.;Notsu K.;Padrón E.;Nolasco D.;Melián G. and Pérez N.M;Y.Ohtsu and M.Z.Hassan
通讯作者：
Y.Ohtsu and M.Z.Hassan

ホロー効果を用いたプラズマプロセス装置におけるプラズマ密度のガス圧力依存性

使用中空效应的等离子体处理设备中等离子体密度的气体压力依赖性