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Iron disilicide photochemical diode with Au-promoter

Iron disilicide photochemical diode with Au-promoter
带 Au 促进剂的二硅化铁光化学二极管
批准号:
23560018
负责人:
AKIYAMA Kensuke
金额:
$3.33万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2011
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2011 至 2013

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
半导体二硅化铁(β-FeSi2)作为一种适用于光纤通信波长的光电探测器和硅基发光体,引起了人们极大的关注。这是因为β-FeSi2的禁带宽度小于0.80 eV,在1 eV处有很大的光吸收系数,大于1e5/cm。此外,这种半导体材料含有比传统化合物半导体中使用的元素更丰富、毒性更低的元素。在本报告中,我们报道了利用半导体工艺中常用的金属-有机化学气相沉积(MOCVD)方法在硅粉表面制备Au电极的β-FeSi2光化学二极管的新方法。此外,我们还研究了这种光化学二极管在紫外光和甲醛水溶液中的可见光照射下的析氢情况。
英文摘要
Semiconducting iron disilicide (beta-FeSi2) has been attracting a great deal of attention as a photo-detector and Si-based light emitter operating at wavelengths suitable for optical fiber communications. This is because beta-FeSi2 has a band gap less than 0.80 eV and a very large optical absorption coefficient over 1E+5 /cm at 1 eV. Moreover, this semiconducting material is composed of the elements that are naturally abundant and less toxic than the elements used in conventional compound semiconductors.In this report, we report on the novel fabrication method of beta-FeSi2 photochemical diode with Au electrode on the surface of Si powder by using metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) method which is general in semiconductor process technology. Moreover, we repot on the hydrogen evolution over this photochemical diode under irradiation of not only UV but also visible light from formaldehyde aqueous solution.
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会议论文
Evaluation of β-FeSi2/Si-interface using Ag-coating on Si surface
使用 Si 表面镀银评估 β-FeSi2/Si 界面
DOI: 10.1002/pssc.201300331
发表时间: 2013
期刊: Physica status solidi (c)
影响因子: --
作者: [K. Akiyama, S. Motomura, G. Hayashi, H. Funakubo, and M. Itakura]
通讯作者: and M. Itakura
スパッタリング法によるMg_2Si膜の作製と評価②
溅射法Mg_2Si薄膜的制备及评价②
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
Photoluminescence enhancement fromβ-FeSi_2 on Ag-coated Si
银包硅上 β-FeSi_2 的光致发光增强
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
AgコートしたSi上への高品質鉄シリサイド薄膜の形成
在镀银硅上形成高质量硅化铁薄膜
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
50
    Electrical Characteristics of ss-FeSi_2 thin films on semi-insulating SiC substrates
    • 批准号:
      20613015
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $2.91万
    • 财政年份:
      2008
    • 负责人:
      AKIYAMA Kensuke
    • 依托单位: