Development of the automatic R&D system for reaction processes

自动R的开发

• 批准号: 23560919
• 负责人: TAKAHASHI Takahiro
• 金额: $ 2.83万
• 依托单位: Shizuoka University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2011
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2011 至 2013
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23560919/
• 关键词: 化学気相堆積法; CVD; 実数値遺伝的アルゴリズム; Bio-inspired algorithms; 反応機構; モデリング; 自動化; 微細加工; 反応工学; 遺伝的アルゴリズム; バイオインスパイアードアルゴリズム; 化学気相成長法

In this study, we developed the automatic system to model the reaction mechanisms of CVD processes, in order to decrease the labor requirement and increase the speed of R&D in semiconductor industries. We evaluated the various optimization algorithms, which is dominant to the performance of the system, and found the real-coded genetic algorithms as the candidates for the implementation to the system. As a result, we successfully improved both the accuracy and the cost of the calculations of the system. In addition, we proposed and evaluated a mechanism for interlocking the system and a CFD simulator in order to apply the system to the commercial CVD reactor with complex physical and chemical phenomena.

在本研究中，我们开发了CVD过程反应机理的自动模拟系统，以减少半导体行业的人工需求，提高研发速度。对影响系统性能的各种优化算法进行了评估，发现实数编码遗传算法是系统实现的候选算法。因此，我们成功地提高了系统的计算精度和成本。此外，为了将该系统应用于具有复杂物理和化学现象的商用CVD反应器，我们还提出并评估了该系统的联锁机制和CFD模拟器。

项目成果

GAを用いたCVDの成膜速度分布に関する計算アルゴリズムの開発と評価

使用GA的CVD沉积速率分布计算算法的开发和评估

• 发表时间: 2012
• 作者: Takahiro Takahashi;Ken Kawamura;Kazuya Takahashi and Yoshinori Ema;高橋崇宏,河合晃平,中井寛之,金原宏樹,江間義則;高橋崇宏,河村健,長谷部恭弘,稲垣妙香,高橋和也,江間義則
• 通讯作者: 高橋崇宏,河村健,長谷部恭弘,稲垣妙香,高橋和也,江間義則

An Automatic Modeling System for the Reaction Mechanisms of Chemical Vapor Deposition Processes Using Bio-Inspired Algorithms

使用仿生算法的化学气相沉积过程反应机制的自动建模系统

• 发表时间: 2014
• 作者: Takahiro Takahashi;Masamoto Arakawa and Yoshinori Ema
• 通讯作者: Masamoto Arakawa and Yoshinori Ema

実数値遺伝的アルゴリズムを用いたCVD装置における成膜速度分布の計算方法(3)

利用实值遗传算法计算CVD设备沉积速率分布的方法（3）

• 发表时间: 2013
• 作者: 高橋崇宏;稲垣妙香;成合真吾;児玉純一;荒川正幹;江間義則
• 通讯作者: 江間義則

An Automatic Modeling System of the Reaction Mechanisms for Chemical Vapor Deposition Processes Using Real-Coded Genetic Algorithms

使用实数编码遗传算法的化学气相沉积过程反应机理自动建模系统

• 发表时间: 2011
• 期刊: J. Nanosci. Nanotechnol.
• 作者: T. Takahashi;H. Nakai;H. Kinpara;Y. Ema
• 通讯作者: Y. Ema

A Calculation Method of Deposition Profiles in CVD Reactors Using Genetic Algorithms

CVD反应器沉积剖面的遗传算法计算方法

• 发表时间: 2013
• 期刊: Physics Procedia
• 作者: T. Takahashi;K. Kawamura;K. Takahashi and Y. Ema
• 通讯作者: K. Takahashi and Y. Ema