Fabrication of Single-crystal Superconducting Tunnel Junctions, and Photodevice Applications

单晶超导隧道结的制造和光电器件应用

基本信息

项目摘要

We fabricated epitaxial-grown Al film as superconductor materials by molecular beam epitaxy. These films were characterized by reflection high-energy electron diffraction (RHEED), atomic force microscope (AFM) and residual resistance ratio (RRR) measurement. The growth of Al was investigated on Al2O3 (0001) and Si (111) substrates, and flat surface with relatively high RRR of 15 was realized at substrate temperatures around 100 degrees Celsius. We also tried the deposition of epitaxial-grown MgO film as an insulator material and STJ fabrication. A streak RHEED pattern was successfully observed at the top surface of Al/MgO/Al junctions. The epitaxial-grown junctions showed good SIS characteristics in 0.3 K measurements.
我们用分子束外延技术制备了外延生长的Al薄膜作为超导材料。用反射高能电子衍射仪(RHEED)、原子力显微镜(AFM)和剩余电阻比(RRR)对薄膜进行了表征。研究了Al在Al_2O_3(0001)和Si(111)衬底上的生长,在100℃左右的衬底温度下获得了相对较高的RRR为15的平坦表面。我们还尝试了外延生长的氧化镁薄膜作为绝缘体材料的沉积和STJ的制作。在Al/MgO/Al结顶表面成功观察到条纹状RHEED图案。外延生长的结在0.3K温度下表现出良好的SIS特性。

项目成果

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Research of Micro-stripline STJ Detector for Terahertz Band
太赫兹波段微带线STJ探测器研究
  • DOI:
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    K. Takahashi;S. Ariyoshi;T. Noguchi;M. Kurakado;K. Koga;N. Furukawa;C. Otani
  • 通讯作者:
    C. Otani
分子線エピタキシー法によるエピタキシャル成長薄膜を用いた超伝導トンネル接合の作製
分子束外延法外延生长薄膜制备超导隧道结
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    濱尾俊幸;有吉誠一郎;田井野徹;明連広昭;古賀健祐;大谷知行
  • 通讯作者:
    大谷知行
Fabrication of superconducting tunnel junctions with epitaxial film by molecular beam epitaxy
分子束外延法制备外延薄膜超导隧道结
STJに関する2つの話題:テラヘルツ波検出器と単結晶デバイス
与STJ相关的两个主题:太赫兹波探测器和单晶器件
  • DOI:
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    有吉誠一郎;濱尾俊幸;田井野徹;古川昇;野口卓;大谷知行;酒井宗寿;酒井宗寿;有吉誠一郎
  • 通讯作者:
    有吉誠一郎
"Fabrication of Single-crystal Films by Molecular Beam Epitaxy for Superconducting Tunnel Junctions
“超导隧道结的分子束外延单晶薄膜制造
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    S. Ariyoshi;T. Hamao;T. Tohru;K. Koga;N. Furukawa;C. Otani
  • 通讯作者:
    C. Otani
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