Achieve the columnar CoPt-based alloy-oxide granular films with perfect hcp and compositional modulated atomic layers by sputtering

通过溅射获得具有完美hcp和成分调制原子层的柱状CoPt基合金氧化物颗粒薄膜

• 批准号: 24560387
• 负责人: SASAKI Shingo
• 金额: $ 3.49万
• 依托单位: Ichinoseki National College of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2012
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2012-04-01 至 2015-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-24560387/
• 关键词: 磁性材料; 薄膜材料; グラニュラ構造; 薄膜作製プロセス; スパッタリング; グラニュラ組織; グラニュラー構造

项目成果

稠密面配向CoPt 合金スパッタ薄膜の原子積層構造および一軸結晶磁気異方性（Ⅱ）

致密平面取向CoPt合金溅射薄膜的原子堆叠结构和单轴磁晶各向异性（II）

• 发表时间: 2014
• 作者: 斉藤伸;野沢直樹;日向慎太朗;高橋研;澁谷一成;星野和哉;粟屋聡
• 通讯作者: 粟屋聡

Compositional modulated atomic layer stacking and uniaxial magnetocrystalline anisotropy of CoPt alloy sputtered films with close-packed plane orientation

密排面取向 CoPt 合金溅射薄膜的成分调制原子层堆叠和单轴磁晶各向异性

• DOI: 10.1063/1.4918760
• 发表时间: 2015
• 期刊: Journal of Applied Physics
• 影响因子: 3.2
• 作者: S. Saito;N. Nozawa;S. Hinata;M. Takahashi;K. Shibuya;K. Hoshino;and S. Awaya
• 通讯作者: and S. Awaya

Atomic layer stacking structure and negative uniaxial magnetocrystalline anisotropy of Co_{100&minus;<i>x</i>}Ir_<i>x</i> sputtered films

Co<sub>100的原子层堆叠结构及负单轴磁晶各向异性

• DOI: 10.3379/msjmag.1305r005
• 发表时间: 2013
• 期刊: Journal of the Magnetics Society of Japan
• 作者: N. Nozawa;S. Saito;T. Kimura;K. Shibuya;K. Hoshino;S. Hinata;and M. Takahashi
• 通讯作者: and M. Takahashi

Effect of Co Replacement with Fe on Uniaxial Magnetocrystalline Anisotropy in Disordered hcp CoPtRh Alloy Films

Fe 替代 Co 对无序 hcp CoPtRh 合金薄膜中单轴磁晶各向异性的影响

• DOI: 10.1109/tmag.2013.2246833
• 发表时间: 2013
• 期刊: IEEE Transactions on Magnetics
• 影响因子: 2.1
• 作者: Naoki Nozawa;Shin Saito;Shintaro Hinata and Migaku Takahashi
• 通讯作者: Shintaro Hinata and Migaku Takahashi

Large uniaxial magnetocrystalline anisotropy for Co50Pt50 disordered alloy films with hexagonal-close-packed stacking structure by substitutingPt with Rh

Rh取代Pt的六方密排Co50Pt50无序合金薄膜的大单轴磁晶各向异性

• DOI: 10.1088/0022-3727/46/17/172001
• 发表时间: 2013
• 期刊: Journal of Physics D: Applied Physics
• 作者: N. Nozawa;S. Saito;S. Hinata;and M. Takahashi
• 通讯作者: and M. Takahashi