Development of polishing method for next-generation opt-electronic materials producing atomically-smooth surfaces

开发产生原子级光滑表面的下一代光电材料的抛光方法

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生産加工入門
生产加工简介
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    谷泰弘;村田順二
  • 通讯作者:
    村田順二
Enhancement of photoluminescence efficiency from GaN(0001) by surface treatments
  • DOI:
    10.7567/jjap.53.021001
  • 发表时间:
    2014-01
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    A. Hattori;K. Hattori;Y. Moriwaki;A. Yamamoto;Shun Sadakuni;J. Murata;Kenta Arima;Y. Sano;K. Yamauchi;H. Daimon;K. Endo
  • 通讯作者:
    A. Hattori;K. Hattori;Y. Moriwaki;A. Yamamoto;Shun Sadakuni;J. Murata;Kenta Arima;Y. Sano;K. Yamauchi;H. Daimon;K. Endo
Photo-electrochemical etching of free-standing GaN wafer surfaces grown by hydride vapor phase epitaxy
  • DOI:
    10.1016/j.electacta.2015.04.166
  • 发表时间:
    2015-07
  • 期刊:
  • 影响因子:
    6.6
  • 作者:
    J. Murata;Shun Sadakuni
  • 通讯作者:
    J. Murata;Shun Sadakuni
Structural and chemical characteristics of atomically smooth GaN surfaces prepared by abrasive-free polishing with Pt catalyst
  • DOI:
    10.1016/j.jcrysgro.2012.04.007
  • 发表时间:
    2012-06
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.8
  • 作者:
    J. Murata;Shun Sadakuni;T. Okamoto;A. Hattori;K. Yagi;Y. Sano;Kenta Arima;K. Yamauchi
  • 通讯作者:
    J. Murata;Shun Sadakuni;T. Okamoto;A. Hattori;K. Yagi;Y. Sano;Kenta Arima;K. Yamauchi
研磨具及び研磨装置
抛光工具和设备
  • DOI:
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
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