Investigation of chemically reactive field in liquid induced by plasma exposure
Investigation of chemically reactive field in liquid induced by plasma exposure
等离子体暴露引起的液体化学反应场的研究
批准号：
25390107
负责人：
Ishijima Tatsuo
金额：
$3.24万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2013
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2013-04-01 至 2016-03-31
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Development of environmentally-friendly photoresist removal process using microwave excited bubble plasma in Water
开发利用水中微波激发气泡等离子体的环保光刻胶去除工艺
开发利用水中微波激发气泡等离子体的环保光刻胶去除工艺
DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
[T. Ishijima, H. Horibe, Y. Tanaka, Y. Uesugi]
通讯作者：
Y. Uesugi
プラズマ生成装置
等离子发生器
等离子发生器
DOI：
--
发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
Production of Microwave Excited Bubble Plasma in Water at Low Microwave Power Injection
低微波功率注入水中微波激发气泡等离子体的产生
低微波功率注入水中微波激发气泡等离子体的产生
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[T. Ishijima, T. Ito,T. Kitano, H . Suzuki, Y. Tanaka, Y. Uesugi, T. Nishiyama, and H. Horibe]
通讯作者：
and H. Horibe
Development of High-speed and Environmentally Friendly Photoresist Removal Process using Pulsed Microwave Plasma in Water Vapor
水蒸气中脉冲微波等离子体高速环保光刻胶去除工艺的开发
水蒸气中脉冲微波等离子体高速环保光刻胶去除工艺的开发
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[T. Ishijima, T. Kitano, T. Ito, H. Suzuki, Y. Tanaka, Y. Uesugi, T. Nishiyama, H. Horibe]
通讯作者：
H. Horibe
Development of Novel Photoresist Removal Process using Multi-Phase Plasma
使用多相等离子体开发新型光刻胶去除工艺
使用多相等离子体开发新型光刻胶去除工艺
DOI：
--
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
--
作者：
[T. Ishijima, K. Nosaka, Y. Goto, H. Horibe, Y. Tanaka, Y. Uesugi]
通讯作者：
Y. Uesugi
共 17 条
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