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Real-time in situ measurements of free radicals during Plasma sterilization

等离子体灭菌过程中自由基的实时原位测量

基本信息

批准号：
26286071
负责人：
Ishikawa Kenji
金额：
$ 10.23万
依托单位：
Nagoya University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2014
资助国家：
日本
起止时间：
2014-04-01 至 2017-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（0）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Sterilization efficiency enhancement by using magnet-assisted-plasma jet

使用磁力辅助等离子体射流提高灭菌效率

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
Chih-Tung Liu;Takumi Kumakura;Kenji Ishikawa;Hiroshi Hashizume;Keigo Takeda;Masafumi Ito;Masaru Hori;and Jong-Shinn Wu
通讯作者：
and Jong-Shinn Wu

Diagnostics of activated species generated by non-equilibrium atmospheric pressure plasmas for plasma biomedical applications

用于等离子体生物医学应用的非平衡大气压等离子体产生的活化物质的诊断

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
K. Yamamasu;K. Yamashita;T. Ohta;M. Ito;M. Hori;髙橋智之，加藤俊顕，金子俊郎;Kenji Ishikawa
通讯作者：
Kenji Ishikawa

Plasma technology for medicine and bio application

等离子体技术在医学和生物应用中的应用

DOI：
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
0
作者：
R. Tero;R. Yamashita;H. Hashizume;Y. Suda;H. Takikawa;M. Hori;M. Ito;Kenji Ishikawa
通讯作者：
Kenji Ishikawa

医療・バイオ応用プラズマ技術

医疗/生物应用等离子体技术

DOI：
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
0
作者：
R. Nagai;T. kaneko and T. Kato;伊藤民武;石川健治
通讯作者：
石川健治

プラズマ活性化溶液(PAM)培養した脳腫瘍細胞(U251SP)の代謝プロファイル

在血浆活化溶液 (PAM) 中培养的脑肿瘤细胞 (U251SP) 的代谢特征

DOI：
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
0
作者：
石川健治;倉家尚之;田中宏昌;橋爪博司;竹田圭吾;中村香江;梶山広明;近藤博基;関根誠;加藤昌志;水野正明;吉川史隆;堀勝
通讯作者：
堀勝

DOI：
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作者：
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Ishikawa Kenji其他文献

精密光干渉計によるパラメトリックスピーカ放射音の近距離場計測

使用精密光学干涉仪近场测量参量扬声器辐射声

DOI：
发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
0
作者：
Ishikawa Kenji;Shiraki Yoshifumi;Moriya Takehiro;石川憲治
通讯作者：
石川憲治

晩清時代滿族的統治思想──以歴史意識與官員制度為中心

清末满族治理思想——以历史意识和官制为中心

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
Yatabe Kohei;Tanigawa Risako;Ishikawa Kenji;Oikawa Yasuhiro;水盛涼一
通讯作者：
水盛涼一

Mg-Zn-Y-Al急冷合金の強靭化メカニズム

Mg-Zn-Y-Al快凝合金的增韧机理

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
Inoue Kenichi;Sakakibara Noritaka;Goto Taku;Ito Tsuyohito;Shimizu Yoshiki;Ishikawa Kenji;Hori Masaru;and Terashima Kazuo;西本宗矢，山崎倫昭，河村能人
通讯作者：
西本宗矢，山崎倫昭，河村能人

In situ surface analysis of an ion-energy-dependent chlorination layer on GaN during cyclic etching using Ar+ ions and Cl radicals

使用 Ar 离子和 Cl 自由基进行循环蚀刻期间 GaN 上离子能量依赖性氯化层的原位表面分析

DOI：
10.1116/6.0000124
发表时间：
2020
期刊：
Journal of Vacuum Science & Technology A
影响因子：
2.9
作者：
Hasegawa Masaki;Tsutsumi Takayoshi;Tanide Atsushi;Nakamura Shohei;Kondo Hiroki;Ishikawa Kenji;Sekine Makoto;Hori Masaru
通讯作者：
Hori Masaru

A 65-nm CMOS Fully Integrated Analysis Platform Using an On-Chip Vector Network Analyzer and a Transmission-Line-Based Detection Window for Analyzing Circulating Tumor Cell and Exosome

65 nm CMOS 全集成分析平台，使用片上矢量网络分析仪和基于传输线的检测窗口来分析循环肿瘤细胞和外泌体

DOI：
10.1109/tbcas.2018.2882472
发表时间：
2019
期刊：
IEEE Transactions on Biomedical Circuits and Systems
影响因子：
5.1
作者：
Niitsu Kiichi;Nakanishi Taiki;Murakami Shunya;Matsunaga Maya;Kobayashi Atsuki;Karim Nissar Mohammad;Ito Jun;Ozawa Naoya;Hase Tetsunari;Tanaka Hiromasa;Sato Mitsuo;Kondo Hiroki;Ishikawa Kenji;Odaka Hidefumi;Hasegawa Yoshinori;Hori Masaru;Nakazato Kazuo
通讯作者：
Nakazato Kazuo