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NMR study on the inelastic scattering rate governing the spin-lock in the topological insulator

NMR study on the inelastic scattering rate governing the spin-lock in the topological insulator
拓扑绝缘体中控制自旋锁的非弹性散射率的核磁共振研究
批准号:
15K05148
负责人:
Takayuki GOTO
金额:
$3.0万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2015
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2015-04-01 至 2018-03-31

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Low-energy μSR study on the tetradymite topological insulator Bi1.5Sb0.5TeSe2
碲辉石拓扑绝缘体Bi1.5Sb0.5TeSe2的低能μSR研究
DOI: --
发表时间: 2016
期刊:
影响因子: --
作者: [T. Goto, K. Matsui, Tu Ngoc Han, Yoichi Tanabe, Katsumi Tanigaki]
通讯作者: Katsumi Tanigaki
In-plane topological p-n junction in the three-dimensional topological insulator Bi(2-x)Sb(x)Te(3-y)Se(y).
三维拓扑绝缘子BI(2-X)SB(X)TE(3-Y)SE(y)中的平面内拓扑P-N连接。
DOI: 10.1038/ncomms13763
发表时间: 2016-12-09
期刊: Nature communications
影响因子: 16.6
作者: []
通讯作者:
Large - area synthesis and nondestructive transfer process of high - quality Bi2-xSbxTe3-ySey films
高品质Bi2-xSbxTe3-ySey薄膜的大面积合成及无损转移工艺
DOI: --
发表时间: 2015
期刊:
影响因子: --
作者: [Tu Ngoc Han, Yoichi Tanabe, Yosuke Satake, Khuong, Kim Huynh, Katsumi Tanigaki]
通讯作者: Katsumi Tanigaki
DOI: 10.1103/physrevmaterials.1.054202
发表时间: 2017-03
期刊: arXiv: Materials Science
影响因子: --
作者: [S. Y. Matsushita;K. K. Huynh-K.;H. Yoshino;N. Tu;Y. Tanabe;K. Tanigaki]
通讯作者: S. Y. Matsushita;K. K. Huynh-K.;H. Yoshino;N. Tu;Y. Tanabe;K. Tanigaki
共 12 条
    国内基金
    海外基金
    硼碳氮体系等电子浓度规律及其薄膜合成研究
    • 批准号:
      50572012
    • 项目类别:
      面上项目
    • 资助金额:
      27.0万元
    • 批准年份:
      2005
    • 负责人:
      陆文琪
    • 依托单位:
    C60薄膜合成、激光退火及其电学性质研究
    • 批准号:
      59282027
    • 项目类别:
      专项基金项目
    • 资助金额:
      5.5万元
    • 批准年份:
      1992
    • 负责人:
      戴国瑞
    • 依托单位: