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Preparation of planar-type novel structured THz device using a-axis/non-c axis oriented Bi-2223 epitaxial film

Preparation of planar-type novel structured THz device using a-axis/non-c axis oriented Bi-2223 epitaxial film
采用a轴/非c轴取向Bi-2223外延薄膜制备平面型新型结构太赫兹器件
批准号:
15K05997
负责人:
Endo Kazuhiro
金额:
$3.16万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2015
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2015-04-01 至 2019-03-31

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DOI: --
发表时间: 2018
期刊:
影响因子: --
作者: [小森和範, 有沢俊一, 遠藤和弘, 遠藤和弘]
通讯作者: 遠藤和弘
高温超伝導磁束トランスの作製と静磁場伝達特性の評価
高温超导磁通变压器的制作及静磁场传输特性评估
DOI: --
发表时间: 2019
期刊:
影响因子: --
作者: [小森和範, 有沢俊一, 遠藤和弘]
通讯作者: 遠藤和弘
Characterization by X-ray Diffraction of Non c-axis Epitaxial Bi2Sr2CaCu2O8+ Thin Films
非 c 轴外延 Bi2Sr2CaCu2O8 薄膜的 X 射线衍射表征
DOI: 10.1109/tasc.2016.2529005
发表时间: 2016
期刊: IEEE Transactions of Applied Superconductivity
影响因子: --
作者: [K. Endo, S. Arisawa, T. Kaneko, I. Tsuyumoto, Y. Tateno and P. Badica]
通讯作者: Y. Tateno and P. Badica
パワーエレクトロニクス応用に向けたBi系酸化物MOCVD膜の配向制御
用于电力电子应用的 Bi 基氧化物 MOCVD 薄膜的取向控制
DOI: --
发表时间: 2016
期刊:
影响因子: --
作者: [河合伸哉, 和田倫明, 土屋哲男, 有沢俊一, 露本伊佐男, 舘野康史, Petre Badica, 遠藤和弘]
通讯作者: 遠藤和弘
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    Preparation of high-quality non-c-axis oriented Bi-2223 single crystal thin films targeting fabrication of high-power THz device with nobel structure
    • 批准号:
      24560386
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $3.49万
    • 财政年份:
      2012
    • 负责人:
      Endo Kazuhiro
    • 依托单位:
    国内基金
    海外基金
    高性能抗氧化BOPP薄膜加工关键技术研究
    • 批准号:
    • 项目类别:
      省市级项目
    • 资助金额:
      --
    • 批准年份:
      2026
    • 负责人:
      王晓丽
    • 依托单位:
    汽车后视镜用高耐腐蚀银合金薄膜材料开发
    • 批准号:
    • 项目类别:
      省市级项目
    • 资助金额:
      --
    • 批准年份:
      2026
    • 负责人:
      林改
    • 依托单位:
    基于稀疏天线阵列的薄膜铌酸锂光学相控阵
    • 批准号:
      JCZRMS202600414
    • 项目类别:
      省市级项目
    • 资助金额:
      --
    • 批准年份:
      2026
    • 负责人:
    • 依托单位:
    CsₓWO₃/CeO₂异质结的构建及其自修复透明隔热薄膜研究
    • 批准号:
      2026JJ50456
    • 项目类别:
      省市级项目
    • 资助金额:
      --
    • 批准年份:
      2026
    • 负责人:
      谭彦妮
    • 依托单位: