Establishment of new technology by nano-mist deposition method for transparent conducting film that has functionally graded structure

功能梯度结构透明导电薄膜纳米雾沉积新技术的建立

• 批准号: 15K06446
• 负责人: Seki Shigeyuki
• 金额: $ 3.16万
• 依托单位: Sendai National College of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2015
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2015-04-01 至 2018-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-15K06446/
• 关键词: ナノミスト堆積法; 傾斜機能構造; 組成制御; ミスト放出時混合; 透明導電膜; スズ添加酸化インジウム; 酸化インジウム; 酸化スズ; ナノミスト成膜装置; 溶液調製時混合方式; スズ添加

项目成果

Flexible SnO2 Electrodes Prepared by Spray Deposition Processes for Ag Deposition-Based Three-Way EC Device

喷雾沉积工艺制备的柔性 SnO2 电极用于基于银沉积的三向 EC 器件

• 发表时间: 2017
• 期刊: Proceedings of the 24th International Display Workshops 2017
• 作者: H. Suzuki;W. Fujimoto;K. Suzuki;Y. Henmi;Y. Seki;T. Sasaki;K. Pak;S. Seki;T. Suenaga;K. Kumagai;T. Satoh;and T. Uchida
• 通讯作者: and T. Uchida

透明EC素子における電圧制御，溶媒による多色表示の試み

透明EC元件中的电压控制以及使用溶剂进行多色显示的尝试

• 发表时间: 2015
• 作者: 市川正人;関成之;菅亮太;横山拓実;志田共晶;山田晃大;谷忠昭;内田孝幸
• 通讯作者: 内田孝幸

電子制御を可能にしたミストCVD 成膜装置の設計

可实现电子控制的雾气CVD沉积设备的设计

• 发表时间: 2016
• 作者: 後藤晃哉;高橋辰宏;鈴木勇人，關成之，末永貴俊
• 通讯作者: 鈴木勇人，關成之，末永貴俊

薄膜製造プロセスのための超音波噴霧システムの開発

薄膜制造工艺超声波雾化系统的开发

• 发表时间: 2015
• 作者: 江森俊貴;浅井隆秀;後藤晃哉;粟野宏;米竹孝一郎;高橋辰宏;鈴木勇人，關成之，末永貴俊
• 通讯作者: 鈴木勇人，關成之，末永貴俊

組成傾斜を作り出すミストCVD装置のマニュアル作成

为可创建成分梯度的雾气 CVD 设备创建手册

• 发表时间: 2017
• 作者: 鈴木裕紀;長山佑樹;浅井隆秀;後藤晃哉;粟野宏;高橋辰宏;鈴木庸久;大津加慎教;邉見祐馬，鈴木勇人，末永貴俊，關成之，佐藤友章
• 通讯作者: 邉見祐馬，鈴木勇人，末永貴俊，關成之，佐藤友章