Establishment of new technology by nano-mist deposition method for transparent conducting film that has functionally graded structure
Establishment of new technology by nano-mist deposition method for transparent conducting film that has functionally graded structure
功能梯度结构透明导电薄膜纳米雾沉积新技术的建立
批准号：
15K06446
负责人：
Seki Shigeyuki
金额：
$3.16万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2015
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2015-04-01 至 2018-03-31
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Flexible SnO2 Electrodes Prepared by Spray Deposition Processes for Ag Deposition-Based Three-Way EC Device
喷雾沉积工艺制备的柔性 SnO2 电极用于基于银沉积的三向 EC 器件
喷雾沉积工艺制备的柔性 SnO2 电极用于基于银沉积的三向 EC 器件
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
Proceedings of the 24th International Display Workshops 2017
影响因子：
--
作者：
[H. Suzuki, W. Fujimoto, K. Suzuki, Y. Henmi, Y. Seki, T. Sasaki, K. Pak, S. Seki, T. Suenaga, K. Kumagai, T. Satoh, and T. Uchida]
通讯作者：
and T. Uchida
透明EC素子における電圧制御，溶媒による多色表示の試み
透明EC元件中的电压控制以及使用溶剂进行多色显示的尝试
透明EC元件中的电压控制以及使用溶剂进行多色显示的尝试
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[市川正人, 関成之, 菅亮太, 横山拓実, 志田共晶, 山田晃大, 谷忠昭, 内田孝幸]
通讯作者：
内田孝幸
電子制御を可能にしたミストCVD 成膜装置の設計
可实现电子控制的雾气CVD沉积设备的设计
可实现电子控制的雾气CVD沉积设备的设计
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[後藤晃哉, 高橋辰宏, 鈴木勇人，關成之，末永貴俊]
通讯作者：
鈴木勇人，關成之，末永貴俊
薄膜製造プロセスのための超音波噴霧システムの開発
薄膜制造工艺超声波雾化系统的开发
薄膜制造工艺超声波雾化系统的开发
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[江森俊貴, 浅井隆秀, 後藤晃哉, 粟野宏, 米竹孝一郎, 高橋辰宏, 鈴木勇人，關成之，末永貴俊]
通讯作者：
鈴木勇人，關成之，末永貴俊
組成傾斜を作り出すミストCVD装置のマニュアル作成
为可创建成分梯度的雾气 CVD 设备创建手册
为可创建成分梯度的雾气 CVD 设备创建手册
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[鈴木裕紀, 長山佑樹, 浅井隆秀, 後藤晃哉, 粟野宏, 高橋辰宏, 鈴木庸久, 大津加慎教, 邉見祐馬，鈴木勇人，末永貴俊，關成之，佐藤友章]
通讯作者：
邉見祐馬，鈴木勇人，末永貴俊，關成之，佐藤友章
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