プラズマ粉体処理によるミクロ傾斜機能構造を有する熱電材料セラミックスの開発
プラズマ粉体処理によるミクロ傾斜機能構造を有する熱電材料セラミックスの開発
批准号:
08243243
负责人:
小柳 剛
金额:
$1.28万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份:
1996
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1996 至 --
中文摘要
本研究では,熱電変換セラミックスの粒界・界面にミクロ傾斜機能構造を形成して,熱電性能を向上させることを目的とした。本年度は,熱電変換材料セラミックスの粒界に不純物をド-ピングすることによる粒界・界面でのポテンシャル障壁の制御を目的として,B_2H_6プラズマ処理したSiGe粉体を用いたセラミックスを放電プラズマ焼結法により作製し,その熱電気的特性を調べた。また,BをドープしたSiGe粉体をSiH_4プラズマ中で処理することにより,SiGeセラミックスの粒界にSiGeよりバンドギャップの大きなSiリッチ層を設け,エネルギー・フィルタリング効果による熱電性能向上についても研究を行った。1.B_2H_6プラズマ処理したSiGeセラミックスに関しては,キャリア(正孔)密度pが10^<20>cm^3に達するほどまでBをドープすることができ,大幅に電気伝導率σを向上させることができた。これらの試料の移動度μの測定から,粒界でのポテンシャル障壁φを見積もり,pが増加するにつれて,φが単調に減少することを明らかにした。しかし,粒界にBが偏析した構造もつ焼結がまだ行われていないために,プラズマ処理した試料と未処理試料とでは,ポテンシャル障壁φの高さには違いが見られなかった。2.SiH_4プラズマ処理したSiGeセラミックスに関しては,粒界に形成されたSiリッチ層によるポテンシャル障壁によって,低エネルギーキャリアの伝導が阻害されるエネルギー・フィルタリング効果によるものと考えられるゼ-ベック係数Sの増大が観測された。以上の結果から,プラズマ粉体処理により,熱電変換材料セラミックスの粒界・界面に微細構造を制御して,熱電性能の向上が図られることが可能であることがわかった。
英文摘要
本研究では,熱電変換セラミックスの粒界・界面にミクロ傾斜機能構造を形成して,熱電性能を向上させることを目的とした。本年度は,熱電変換材料セラミックスの粒界に不純物をド-ピングすることによる粒界・界面でのポテンシャル障壁の制御を目的として,B_2H_6プラズマ処理したSiGe粉体を用いたセラミックスを放電プラズマ焼結法により作製し,その熱電気的特性を調べた。また,BをドープしたSiGe粉体をSiH_4プラズマ中で処理することにより,SiGeセラミックスの粒界にSiGeよりバンドギャップの大きなSiリッチ層を設け,エネルギー・フィルタリング効果による熱電性能向上についても研究を行った。1.B_2H_6プラズマ処理したSiGeセラミックスに関しては,キャリア(正孔)密度pが10^<20>cm^3に達するほどまでBをドープすることができ,大幅に電気伝導率σを向上させることができた。これらの試料の移動度μの測定から,粒界でのポテンシャル障壁φを見積もり,pが増加するにつれて,φが単調に減少することを明らかにした。しかし,粒界にBが偏析した構造もつ焼結がまだ行われていないために,プラズマ処理した試料と未処理試料とでは,ポテンシャル障壁φの高さには違いが見られなかった。2.SiH_4プラズマ処理したSiGeセラミックスに関しては,粒界に形成されたSiリッチ層によるポテンシャル障壁によって,低エネルギーキャリアの伝導が阻害されるエネルギー・フィルタリング効果によるものと考えられるゼ-ベック係数Sの増大が観測された。以上の結果から,プラズマ粉体処理により,熱電変換材料セラミックスの粒界・界面に微細構造を制御して,熱電性能の向上が図られることが可能であることがわかった。
期刊论文(4)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
岸本堅剛: "プラズマプロセス技術による熱電変換材料の微細構造制御" 材料科学. 33. 54-60 (1996)
Kengo Kishimoto:“使用等离子体处理技术的热电转换材料的精细结构控制”材料科学 33. 54-60 (1996)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
K.Kishimoto: "Effects of Plasma Treatment on Thermoelectric Properties of Si_<80>Ge_<20> Sintered Alloys" Proceedings of the 4th International Symposium on Functionally Graded Materials. (発表予定). (1997)
K. Kishimoto:“等离子处理对 Si_<80>Ge_<20> 烧结合金热电性能的影响”第四届功能梯度材料国际研讨会论文集(即将发表)。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
プラズマ粉体処理によるミクロ傾斜機能構造を有する熱電材料セラミックスの開発
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批准号:09229242
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1997
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负责人:小柳 剛
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依托单位:
半磁性半導体の超格子及び超微粒子ドープガラス光薄膜素子の開発研究
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批准号:04205106
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.09万
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财政年份:1992
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负责人:小柳 剛
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依托单位:
半磁性半導体Cd_1【○!S】【○!S】Mn【○!S】Te微粒子ドープガラス光薄膜素子の開発研究
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批准号:03855058
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1991
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负责人:小柳 剛
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依托单位:
クラスタイオンビーム法による半磁性半導体CdMnTe系超格子光薄膜素子の開発研究
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批准号:02855071
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.51万
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财政年份:1990
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负责人:小柳 剛
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依托单位:
クラスタイオンビーム法による半磁性半導体CdMnTe超格子光薄膜素子の開発研究
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批准号:01750268
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.51万
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财政年份:1989
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负责人:小柳 剛
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依托单位:
クラスタイオンビーム法による半磁性半導体CdMnTeの超格子光薄膜素子の開発研究
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批准号:63750291
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1988
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负责人:小柳 剛
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依托单位:
クラスタイオンビーム法による半磁性半導体CdMnTe超格子光薄膜素子の開発研究
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批准号:61750283
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1986
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负责人:小柳 剛
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依托单位:
海外基金