Challenge for implementing a Mott FET on thin films of Mott insulators
Challenge for implementing a Mott FET on thin films of Mott insulators
批准号:
15F15315
负责人:
井上 公
金额:
$1.47万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2015
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2015-11-09 至 2018-03-31
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英文摘要
本年度はSrTiO3 FETの金属絶縁体転移のメカニズムを探るため、これまでよりも詳細な実験とシミュレーションによる研究を行いました。これによって、FET特性の閾値が、ゲート電圧印加の履歴の関数になることが判明しました。酸素欠損がバルクに追いやられバックゲートのように働くという仮定から導かれる特性とよく一致しています。このSrTiO3の金属非金属転移の履歴現象を用いて、スパイク時刻依存可塑性(STDP)という脳の中にあるシナプスの特性を真似することに成功し、SrTiO3 FETを用いた人工シナプスを開発することに成功しました。このデバイスの特性パラメータを抽出し、それを使って、機械学習のシミュレーションも行いました。60000の手書き数字で学習を行い、10000の手書き数字で認識のテストを行ったところ、70%を超える良い精度で認識に成功しました。さらに同じデバイスが人工ニューロンとしても動作することを確認しました。従来の人工ニューロンは大きなコンデンサを搭載して積分動作を行なっていましたが、我々のニューロンはSrTiO3 FETの閾値がゲート電圧の履歴で変化することを利用した人工ニューロンであり、集積化を阻む「コンデンサ」を必要としない画期的デバイスです。デバイス開発の分野で世界最大の国際会議IEDMに採択され、研究発表を行いました。現在論文を投稿中です。さらにSrTiO3-FETの低温から極低温までの物性探索を行い、低温で出現する近藤効果と非線形ホール効果を2キャリアモデルで説明することに成功しました。こちらも重要な成果であり、論文投稿準備中です。
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NEGATIVE CHARGE-COMPRESSIBILITY OF SrTiO3 FET.
SrTiO3 FET 的负电荷压缩性。
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Schulman Alejandro, Neeraj Kumar, Ai Kitoh, Pablo Stoliar, Isao H. Inoue]
通讯作者:
Isao H. Inoue
Negative capacitance? 1000% enhancement of the carrier density at the surface of non-doped SrTiO3.
负%20电容%201000%%20增强%20of%20%20载流子%20密度%20at%20%20表面%20of%20非掺杂%20SrTiO3。
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Schulman Alejandro, Neeraj Kumar, Ai Kitoh, Pablo Stoliar, Marcelo Rozenberg, Isao H. Inoue, I. H. Inoue, I. H. Inoue]
通讯作者:
I. H. Inoue
Sign-changing non-monotonic voltage gain of HfO2/Parylene-C/SrTiO3 field-effect transistor due to percolative insulator to two-dimensional metal transition.
由于渗透绝缘体向二维金属过渡而导致 HfO2/Parylene-C/SrTiO3 场效应晶体管的符号变化非单调电压增益。
DOI:
10.1063/1.4973739
发表时间:
2017
期刊:
Applied Physics Letters
影响因子:
4
作者:
[Alejandro Schulman, Ai Kitoh, Pablo Stoliar, Isao H. Inoue]
通讯作者:
Isao H. Inoue
Insulator to 2D metal transition at the surface of SrTiO3 with negative charge compressibility and Kondo effect
具有负电荷压缩性和近藤效应的 SrTiO3 表面绝缘体到二维金属的转变
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Schulman Alejandro, Neeraj Kumar, Ai Kitoh, Pablo Stoliar, Marcelo Rozenberg, Isao H. Inoue]
通讯作者:
Isao H. Inoue
CNRS(フランス)
法国国家科学研究中心(CNRS)
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
共 27 条
ハイブリッド固体ゲート絶縁膜を用いた新奇なモットトランジスタの開発
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批准号:13F03502
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.47万
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财政年份:2013
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负责人:井上 公
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依托单位:
海外基金