Plasma-Induced Formation of Nanoscale Ripple Structures on Surfaces
Plasma-Induced Formation of Nanoscale Ripple Structures on Surfaces
等离子体诱导表面纳米级波纹结构的形成
批准号：
15H03582
负责人：
ONO Kouichi
金额：
$11.15万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2015
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2015-04-01 至 2018-03-31
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Origin of plasma-induced surface roughening and ripple formation during plasma etching
等离子蚀刻过程中等离子引起的表面粗糙和波纹形成的根源
等离子蚀刻过程中等离子引起的表面粗糙和波纹形成的根源
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[K. Ono, N. Nakazaki, H. Tsuda, Y. Takao, and K. Eriguchi]
通讯作者：
and K. Eriguchi
Surface rippling by oblique ion incidence during plasma etching of silicon: Experimental demonstration using sheath control plates
硅等离子蚀刻期间倾斜离子入射引起的表面波纹：使用鞘控制板的实验演示
硅等离子蚀刻期间倾斜离子入射引起的表面波纹：使用鞘控制板的实验演示
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Nobuya Nakazaki, Haruka Matsumoto, Koji Eriguchi, and Kouichi Ono]
通讯作者：
and Kouichi Ono
Plasma-surface interactions for top-down and bottom-up nanofabrication
自上而下和自下而上纳米加工的等离子体表面相互作用
自上而下和自下而上纳米加工的等离子体表面相互作用
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[北野勝久, 井川聡, 中島陽一, 谷篤史, K. Ono]
通讯作者：
K. Ono
プラズマ・固体表面界面反応制御－表面ラフネスとリップルの形成機構と制御－
等离子体/固体表面界面反应控制-表面粗糙度和波纹的形成机理及控制-
等离子体/固体表面界面反应控制-表面粗糙度和波纹的形成机理及控制-
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
応用物理
影响因子：
--
作者：
[沖野友哉, 鍋川康夫, 緑川克美, 斧 高一]
通讯作者：
斧 高一
DOI：
10.1063/1.4937449
发表时间：
2015-12-21
期刊：
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
影响因子：
3.2
作者：
[Nakazaki, Nobuya, Takao, Yoshinori, Ono, Kouichi]
通讯作者：
Ono, Kouichi
共 14 条
A Study of Plasma Chemistry in the Gas Phase and on Surfaces during Plasma Etching in Chlorine-and Bromine-Containing Plasmas
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批准号：17340172
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额：$9.66万
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财政年份：2005
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负责人：ONO Kouichi
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依托单位：
A Study of the Particle Transport and Surface Reactions in Microstructures on Substrates during Plasma Processing
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批准号：14380209
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额：$9.6万
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财政年份：2002
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负责人：ONO Kouichi
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依托单位：
海外基金