Precise measurement of optical constants of thin films in soft X-ray region
Precise measurement of optical constants of thin films in soft X-ray region
软X射线区域薄膜光学常数的精确测量
批准号：
15H03592
负责人：
Kinoshita Hiroo
金额：
$8.65万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2015
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2015-04-01 至 2018-03-31
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EUV反射率計用のMo/Siワイドバンド多層膜偏光子の開発,
开发用于EUV反射计的Mo/Si宽带多层膜偏光片，
开发用于EUV反射计的Mo/Si宽带多层膜偏光片，
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[渡辺雅紀, 井口晴貴, 原田哲男, 渡邊健夫]
通讯作者：
渡邊健夫
DOI：
10.7567/apex.9.035202
发表时间：
2016-03-01
期刊：
APPLIED PHYSICS EXPRESS
影响因子：
2.3
作者：
[Harada, Tetsuo, Hashimoto, Hiraku, Watanabe, Takeo]
通讯作者：
Watanabe, Takeo
EUV反射率計用のワイドバンド多層膜偏光子の開発
EUV反射计用宽带多层膜偏光片的开发
EUV反射计用宽带多层膜偏光片的开发
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[渡辺雅紀, 井口晴貴, 原田哲男, 渡邊健夫]
通讯作者：
渡邊健夫
Absorption Coefficient Measurement Advanced Method of EUV Resist by Direct-Resist Coating on a Photodiode
通过在光电二极管上直接涂覆光刻胶来测量 EUV 光刻胶吸收系数的先进方法
通过在光电二极管上直接涂覆光刻胶来测量 EUV 光刻胶吸收系数的先进方法
DOI：
10.2494/photopolymer.30.87
发表时间：
2017
期刊：
Journal of Photopolymer Science and Technology
影响因子：
0.8
作者：
[S. Niihara, D. Mamezaki, M. Watanabe, T. Harada, and T. Watanabe]
通讯作者：
and T. Watanabe
コヒーレントスキャトロメトリー顕微鏡を用いたマスク検査装置の開発
相干散射显微镜掩模检测装置的开发
相干散射显微镜掩模检测装置的开发
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[新原 章汰, 豆﨑 大輝, 渡辺 雅紀, 原田 哲男, 渡邊 健夫, G. Yoshikawa, 木下博雄]
通讯作者：
木下博雄
共 16 条
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