Leveling nanometer-scale mechanical properties of photopolymerized monomer ultrathin films
光聚合单体超薄膜的纳米级力学性能均化
基本信息
- 批准号:15H03860
- 负责人:
- 金额:$ 11.07万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份:2015
- 资助国家:日本
- 起止时间:2015-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
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Elemental depth profiles and plasma etching rates of positive-tone electron beam resists after sequential infiltration synthesis of alumina
连续渗透合成氧化铝后正电子束抗蚀剂的元素深度分布和等离子体蚀刻速率
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:1.5
- 作者:Yuki Ozaki;Shunya Ito;Nobuya Hiroshiba;Takahiro Nakamura;and Masaru Nakagawa
- 通讯作者:and Masaru Nakagawa
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用原始原子力显微镜观察亚100 nm厚度的光固化树脂薄膜表面弹性模量的厚度依赖性
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:矢野 春菜;久保祥一,中川勝;藤浪想;中嶋健
- 通讯作者:中嶋健
重合性液体のシリカナノ空間中での流動性と一桁ナノ造形
二氧化硅纳米空间中可聚合液体的流动性和个位数纳米加工
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:伊東 駿也;粕谷 素洋;栗原 和枝;中川 勝
- 通讯作者:中川 勝
ポジ型電子線レジストの各プロセスにおける分子レベルでの考察
正电子束光刻胶各工序从分子层面考虑
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:尾﨑 優貴;伊東 駿也;中村 貴宏;中川 勝
- 通讯作者:中川 勝
蛍光アライメントに向けた液体の位置選択的成形のための表面修飾
用于荧光排列的液体区域选择性成形的表面修饰
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:落合 研斗;伊東 駿也;中村 貴宏;中川 勝
- 通讯作者:中川 勝
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Nakagawa Masaru
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- 资助金额:
$ 11.07万 - 项目类别:
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$ 11.07万 - 项目类别:
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$ 11.07万 - 项目类别:
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