Fabrication of organic/inorganic hybrid silica membranes via atmospheric-pressure plasma-polymerization
Fabrication of organic/inorganic hybrid silica membranes via atmospheric-pressure plasma-polymerization
通过常压等离子体聚合制备有机/无机杂化二氧化硅膜
批准号：
15H05553
负责人：
Nagasawa Hiroki
金额：
$15.39万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
财政年份：
2015
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2015-04-01 至 2018-03-31
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誘電体バリア放電反応器によるシリカ膜のプラズマCVD製膜
使用介质阻挡放电反应器等离子体 CVD 沉积二氧化硅薄膜
使用介质阻挡放电反应器等离子体 CVD 沉积二氧化硅薄膜
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Yuui Yokota, Takayuki Nihei, Masao Yoshino, Akihiro Yamaji, Yuji Ohashi, Shunsuke Kurosawa, Kei Kamada, Akira Yoshikawa, 長澤 寛規，香川 貴彦，金指 正言，都留 稔了]
通讯作者：
長澤 寛規，香川 貴彦，金指 正言，都留 稔了
Microporous organosilica membranes prepared via plasma-enhanced chemical vapor deposition
等离子体增强化学气相沉积法制备微孔有机硅膜
等离子体增强化学气相沉积法制备微孔有机硅膜
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Nagasawa H, Kanezashi M, Yoshioka T and Tsuru T]
通讯作者：
Yoshioka T and Tsuru T
大気圧プラズマを用いた多孔性シリカ分離膜の製膜と気体透過特性
常压等离子体多孔二氧化硅分离膜的成膜及气体透过性能
常压等离子体多孔二氧化硅分离膜的成膜及气体透过性能
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Yuui Yokota, Takayuki Nihei, Yuji Ohashi, Shunsuke Kurosawa, Kei Kamada, Akira Yoshikawa, 長澤 寛規，山本 裕太，金指 正言，都留 稔了]
通讯作者：
長澤 寛規，山本 裕太，金指 正言，都留 稔了
Atmospheric-pressure plasma deposition of microporous silica membranes for molecular separation
用于分子分离的微孔二氧化硅膜的常压等离子体沉积
用于分子分离的微孔二氧化硅膜的常压等离子体沉积
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Nagasawa H, Yamamoto Y, Kanezashi M, Yoshoka T and Tsuru T]
通讯作者：
Yoshoka T and Tsuru T
気体分離フィルタの製造方法
气体分离过滤器的制造方法
气体分离过滤器的制造方法
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
共 15 条
Fabrication of highly permselective silica membranes at ordinary temperatures and pressures using atmospheric-pressure plasma-enhanced chemical vapor deposition
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批准号：18K04814
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$2.83万
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财政年份：2018
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负责人：Nagasawa Hiroki
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依托单位：
海外基金