Fabrication of highly permselective silica membranes at ordinary temperatures and pressures using atmospheric-pressure plasma-enhanced chemical vapor deposition
Fabrication of highly permselective silica membranes at ordinary temperatures and pressures using atmospheric-pressure plasma-enhanced chemical vapor deposition
利用常压等离子体增强化学气相沉积在常温常压下制备高选择性渗透二氧化硅膜
批准号：
18K04814
负责人：
Nagasawa Hiroki
金额：
$2.83万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2018
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2018-04-01 至 2021-03-31
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Ultrafast Synthesis of Silica-Based Molecular Sieve Membranes in Dielectric Barrier Discharge at Low Temperature and Atmospheric Pressure
低温常压介质阻挡放电超快合成二氧化硅基分子筛膜
低温常压介质阻挡放电超快合成二氧化硅基分子筛膜
DOI：
10.1021/jacs.0c09433
发表时间：
2020
期刊：
Journal of the American Chemical Society
影响因子：
15
作者：
[Nagasawa Hiroki, Kagawa Takahiko, Noborio Takuji, Kanezashi Masakoto, Ogata Atsushi, Tsuru Toshinori]
通讯作者：
Tsuru Toshinori
Atmospheric-pressure plasma-enhanced CVD of microporous SiO2 membranes in a direct barrier discharge
直接阻挡放电中微孔 SiO2 膜的大气压等离子体增强 CVD
直接阻挡放电中微孔 SiO2 膜的大气压等离子体增强 CVD
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Hiroki Nagasawa,Takahiko Kagawa, Masakoto Kanezashi, Toshinori Tsuru]
通讯作者：
Toshinori Tsuru
大気圧プラズマCVD法によるハイブリッドシリカ膜の常温常圧製膜
采用常压等离子体CVD法常温常压制备杂化二氧化硅薄膜
采用常压等离子体CVD法常温常压制备杂化二氧化硅薄膜
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
膜
影响因子：
--
作者：
[Nagasawa Hiroki, Kagawa Takahiko, Noborio Takuji, Kanezashi Masakoto, Ogata Atsushi, Tsuru Toshinori, 長澤 寛規]
通讯作者：
長澤 寛規
Atmospheric-pressure plasma-enhanced CVD for low-temperature rapid synthesis of silica membranes
大气压等离子体增强CVD低温快速合成二氧化硅膜
大气压等离子体增强CVD低温快速合成二氧化硅膜
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Hiroki Nagasawa,Takahiko Kagawa, Masakoto Kanezashi, Toshinori Tsuru]
通讯作者：
Toshinori Tsuru
大気圧プラズマCVD 法によるLayered-hybridシリカ膜の作製
常压等离子体CVD法制备层状杂化二氧化硅薄膜
常压等离子体CVD法制备层状杂化二氧化硅薄膜
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Nagasawa Hiroki, Kagawa Takahiko, Noborio Takuji, Kanezashi Masakoto, Ogata Atsushi, Tsuru Toshinori, 長澤 寛規, Hiroki Nagasawa, 長澤 寛規，登尾 拓史，金指 正言，都留 稔了, 川崎貢功，長澤寛規，金指正言，都留稔了]
通讯作者：
川崎貢功，長澤寛規，金指正言，都留稔了
共 17 条
Fabrication of organic/inorganic hybrid silica membranes via atmospheric-pressure plasma-polymerization
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批准号：15H05553
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项目类别：Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
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资助金额：$15.39万
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财政年份：2015
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负责人：Nagasawa Hiroki
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依托单位：
海外基金