新規カルコパイライト材料の成長方位を制御するメカニズムの解明と太陽電池応用
新規カルコパイライト材料の成長方位を制御するメカニズムの解明と太陽電池応用
批准号:
15J10424
负责人:
宇留野 彩
金额:
$1.47万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2015
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2015-04-24 至 2017-03-31
中文摘要
2年度目は、「Ag(Ga,Al)Te2混晶の作製によるバンドギャップ制御」を目的としていた。この内容についてはすでに1年度目から取り組むことができたため、計画を立案した時点より進展したものとなった。本年度はさらに別の原料として、Ga2Te3粉末とAgAlTe2粉末を混ぜ合わせたものを用いた場合も、バンドギャップ制御が行えるのかについて検討した。その結果、原料に用いる化合物を変化させた場合でも、従来用いた材料の組み合わせの場合と同様な結晶性のものが作製でき、Ag(Ga,Al)Te2薄膜のバンドギャップを制御することに成功した。Ga2Te3の方がAgGaTe2よりも原料コストが低いため、原料にAgAlTe2とGa2Te3の混合粉末を用いた方が低コスト膜の作製が可能となる。これらの研究成果を、“PSS C、13, 413 (2016)”にて報告を行った。また、Ag/Ga供給比を変化させることにより、電気的特性や光学的特性が変化することが、1年度目の研究から明らかとなったが、本年度はさらに、詳しい解析を行った。その結果、膜内のAg/Ga比の変化に伴い、様々な副生成物の存在や表面形態の変化が明らかになった。そしてGa2Te3の割合が多いとAgGaTe2とAgGa5Te8の混合物が、Ga2Te3の割合が少ないと、AgGaTe2とAg2Teの混合物が作製されることが明らかとなった。これらの傾向は状態図を基にした解析結果と一致し、さらに包晶反応や共晶反応が起きることで、副生成物が形成されるという知見を得ることにも成功した。これらの研究成果を、“J. Electron. Mater.”,“PSS A 214, 1600284 (2017)”にて報告し、“The 2016 U.S. Workshop”“第64回応用物理学会春季学術講演会”や“平成29年電気学会全国大会”で口頭発表した。
英文摘要
2年度目は、「Ag(Ga,Al)Te2混晶の作製によるバンドギャップ制御」を目的としていた。この内容についてはすでに1年度目から取り組むことができたため、計画を立案した時点より進展したものとなった。本年度はさらに別の原料として、Ga2Te3粉末とAgAlTe2粉末を混ぜ合わせたものを用いた場合も、バンドギャップ制御が行えるのかについて検討した。その結果、原料に用いる化合物を変化させた場合でも、従来用いた材料の組み合わせの場合と同様な結晶性のものが作製でき、Ag(Ga,Al)Te2薄膜のバンドギャップを制御することに成功した。Ga2Te3の方がAgGaTe2よりも原料コストが低いため、原料にAgAlTe2とGa2Te3の混合粉末を用いた方が低コスト膜の作製が可能となる。これらの研究成果を、“PSS C、13, 413 (2016)”にて報告を行った。また、Ag/Ga供給比を変化させることにより、電気的特性や光学的特性が変化することが、1年度目の研究から明らかとなったが、本年度はさらに、詳しい解析を行った。その結果、膜内のAg/Ga比の変化に伴い、様々な副生成物の存在や表面形態の変化が明らかになった。そしてGa2Te3の割合が多いとAgGaTe2とAgGa5Te8の混合物が、Ga2Te3の割合が少ないと、AgGaTe2とAg2Teの混合物が作製されることが明らかとなった。これらの傾向は状態図を基にした解析結果と一致し、さらに包晶反応や共晶反応が起きることで、副生成物が形成されるという知見を得ることにも成功した。これらの研究成果を、“J. Electron. Mater.”,“PSS A 214, 1600284 (2017)”にて報告し、“The 2016 U.S. Workshop”“第64回応用物理学会春季学術講演会”や“平成29年電気学会全国大会”で口頭発表した。
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
登录
查看更多内容
AgGaTe2膜内のAg/Ga比が膜質に与える影響と状態図による解析
AgGaTe2 薄膜中 Ag/Ga 比例对薄膜质量的影响及相图分析
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[宇留野彩,鬼界伸一郎, 末次由里, 桜川陽平, 小林正和]
通讯作者:
小林正和
The growth of AgGaTe2 layer on Si substrate by two-step closed space sublimation and its application to solar cell fabrications
两步封闭空间升华法在硅衬底上生长AgGaTe2层及其在太阳能电池制造中的应用
DOI:
10.1109/pvsc.2016.7749649
发表时间:
2016
期刊:
Proc. 43rd IEEE Photovolt. Spec. Conf.
影响因子:
--
作者:
[A. Uruno, and M. Kobayashi]
通讯作者:
and M. Kobayashi
Structural and electric properties of AgGaTe2 layers prepared using mixed Source of Ag2Te and Ga2Te3
使用 Ag2Te 和 Ga2Te3 混合源制备的 AgGaTe2 层的结构和电性能
DOI:
10.1002/pssa.201600284
发表时间:
2017
期刊:
Phys. Status Solidi A
影响因子:
--
作者:
[A. Uruno, and M. Kobayashi]
通讯作者:
and M. Kobayashi
Ag2Te中間層を導入したSi基板上のAgGaTe2作製と太陽電池応用
带Ag2Te中间层的Si衬底上AgGaTe2的制备及太阳能电池应用
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[A. Uruno, and M. Kobayashi, A. Uruno and M. Kobayashi, 宇留野彩,小林正和]
通讯作者:
宇留野彩,小林正和
The growth of AgGaTe2 layers on glass substrates with Ag2Te buffer layer by closed space sublimation method
采用封闭空间升华法在带有 Ag2Te 缓冲层的玻璃基板上生长 AgGaTe2 层
DOI:
10.1002/pssc.201400267
发表时间:
2015
期刊:
Phys. Status Solidi C
影响因子:
--
作者:
[A. Uruno, A. Usui, Y. Takeda, T. Inoue, and M. Kobayashi]
通讯作者:
and M. Kobayashi
共 12 条