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４Ｈ－ＳｉＣ熱酸化界面構造の理解に基づくＭＯＳＦＥＴ高性能化のための材料設計

基于理解4H-SiC热氧化界面结构的高性能MOSFET材料设计

基本信息

批准号：
15J10704
负责人：
平井悠久
金额：
$ 1.79万
依托单位：
The University of Tokyo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
2015
资助国家：
日本
起止时间：
2015-04-24 至 2018-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

本研究は、電力の制御に関わる技術体系であるパワーエレクトロニクスにおける、要素素子の高性能化に関する研究である。シリコンカーバイド（SiC）は、次世代パワーエレクトロニクス材料として要素素子の性能を向上可能な物性を有しているが、SiCと絶縁膜を積層して形成するMOS界面に導入されてしまう界面欠陥の除去が技術的課題である。本研究は、SiC/SiO2からなるMOS界面の材料学的な構造を、電子デバイスにおいて重要となるナノメートル領域に対して調査し、電子デバイスの性能を向上させる手法を獲得することを目的として行った。本年度は、昨年度に着目したウェット雰囲気を応用した実験により、4H-SiCのSi面上に形成したMOS界面の電気特性の評価を行った。ウェット雰囲気を用いて、MOS界面の特性を表す重要な指標であるチャネル移動度およびしきい電圧に注目して評価を行った。現状の技術では、これらはトレードオフ関係にあるが、本研究では両者を独立に制御する手法について検討した。その結果、界面近傍の領域のみを選択的に処理する低温（800度程度）ウェット処理を用いることで、チャネル移動度を現状の標準プロセスと同等以上に向上させつつ、しきい電圧を構成する一つの成分であるフラットバンド電圧の変動を独立に制御できることを明らかにした。これは、低温を用いることで界面にのみ選択的にウェット処理の効果を適用し、フラットバンド電圧変動の原因となる電荷の形成を抑制することが可能になったためと考えられる。本研究の成果の一部について、当該分野最大の国際会議であるICSCRM2017において口頭発表を行った。このように、チャネル移動度向上のためのSiC上のMOS界面形成に対するプロセス指針を提示した。

This study is aimed at the research on the technical system of electric power control and the high performance of elements. SiC is a material for the next generation of silicon carbide, and the properties of the silicon carbide elements can be improved. SiC and insulating films are laminated to form MOS interfaces. In this study, the structure and electronic properties of SiC/SiO2 MOS interface were investigated and improved. This year's annual report shows that the MOS interface formed on 4H-SiC has been evaluated. The characteristics of MOS interface are important indicators for evaluating the mobility and voltage of MOS interface. The present situation of the technology is different from that of other technologies. However, this study focuses on the independent control methods. As a result, the area near the interface is selected for processing at low temperature (800 degrees), processing at medium temperature, and mobility at present. The standard is equivalent to or above the standard. The voltage composition is independent of the voltage variation. For example, if the temperature is low, the temperature of the interface is low, and the temperature of the interface is low, the temperature of the interface is low, and the temperature of the interface is low. The results of this study were presented orally at ICSCRM2017, the largest international conference in the field. The MOS interface formation on SiC is indicated by the upward mobility of the MOS interface.