Novel development of ring-shaped hollow magnetized discharge under neo-magnetic field configuration for low-pressure high-density uniform plasma source
Novel development of ring-shaped hollow magnetized discharge under neo-magnetic field configuration for low-pressure high-density uniform plasma source
新磁场配置下环形空心磁化放电低压高密度均匀等离子体源的新进展
批准号：
16K05634
负责人：
Yasunori Ohtsu
金额：
$3.0万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2016
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2016-04-01 至 2019-03-31
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プラズマ処理装置
等离子处理设备
等离子处理设备
DOI：
--
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
West Virginia Uuniversity(米国)
西弗吉尼亚大学（美国）
西弗吉尼亚大学（美国）
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
プラズマエレクトロニクス研究室(佐賀大学）
等离子电子实验室（佐贺大学）
等离子电子实验室（佐贺大学）
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
DOI：
10.1007/s11090-017-9847-1
发表时间：
2017-09
期刊：
Plasma Chemistry and Plasma Processing
影响因子：
3.6
作者：
[M. Hossain;Y. Ohtsu;T. Tabaru]
通讯作者：
M. Hossain;Y. Ohtsu;T. Tabaru
プラズマエレクトロニクス研究室
等离子电子实验室
等离子电子实验室
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
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