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Autonomously Generating Nano-Micro Textured Ultra Flat Smooth Surfaces by Applying Molecular Beam Epitaxy with Molecular Beam Source
通过分子束源应用分子束外延自主生成纳米微纹理超平坦光滑表面
基本信息
- 批准号：16K06031
- 负责人：
- 金额：$ 3万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2016
- 资助国家：日本
- 起止时间：2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Autonomously Generating Nano-Micro Textured Ultra Flat Smooth Surfaces by Applying Molecular Beam Epitaxy with Helicon Sputtering Molecular Beam Source for Nanoimprint Die
通过应用分子束外延和用于纳米压印模具的螺旋溅射分子束源自主生成纳米微纹理超平坦光滑表面
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：A. KAKUTA; S. MARUTA
- 通讯作者：S. MARUTA
Autonomously Generating Nano-Micro Textured Ultra flat Surfaces by applying Molecular Beam Epitaxy
通过应用分子束外延自主生成纳米微米纹理超平坦表面
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：A. KAKUTA;S. KAWAKAMI
- 通讯作者：S. KAWAKAMI
分子線エピタキシャル結晶成長を用いた表面創成 - ヘリコンスパッタリング分子線源を 用いたSi-Si ホモエピタキシャル成長
使用分子束外延晶体生长进行表面创建 - 使用螺旋溅射分子束源进行 Si-Si 同质外延生长
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：A. KAKUTA; S. MARUTA;川上俊介，角田陽
- 通讯作者：川上俊介，角田陽
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