Autonomously Generating Nano-Micro Textured Ultra Flat Smooth Surfaces by Applying Molecular Beam Epitaxy with Molecular Beam Source
Autonomously Generating Nano-Micro Textured Ultra Flat Smooth Surfaces by Applying Molecular Beam Epitaxy with Molecular Beam Source
通过分子束源应用分子束外延自主生成纳米微纹理超平坦光滑表面
批准号：
16K06031
负责人：
KAKUTA AKIRA
金额：
$3.0万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2016
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2016-04-01 至 2019-03-31
中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
Autonomously Generating Nano-Micro Textured Ultra Flat Smooth Surfaces by Applying Molecular Beam Epitaxy with Helicon Sputtering Molecular Beam Source for Nanoimprint Die
通过应用分子束外延和用于纳米压印模具的螺旋溅射分子束源自主生成纳米微纹理超平坦光滑表面
通过应用分子束外延和用于纳米压印模具的螺旋溅射分子束源自主生成纳米微纹理超平坦光滑表面
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[A. KAKUTA, S. MARUTA]
通讯作者：
S. MARUTA
Autonomously Generating Nano-Micro Textured Ultra flat Surfaces by applying Molecular Beam Epitaxy
通过应用分子束外延自主生成纳米微米纹理超平坦表面
通过应用分子束外延自主生成纳米微米纹理超平坦表面
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
The proceeding of The 7th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology (ASPEN 2017)
影响因子：
--
作者：
[A. KAKUTA, S. KAWAKAMI]
通讯作者：
S. KAWAKAMI
分子線エピタキシャル結晶成長を用いた表面創成 - ヘリコンスパッタリング分子線源を 用いたSi-Si ホモエピタキシャル成長
使用分子束外延晶体生长进行表面创建 - 使用螺旋溅射分子束源进行 Si-Si 同质外延生长
使用分子束外延晶体生长进行表面创建 - 使用螺旋溅射分子束源进行 Si-Si 同质外延生长
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[A. KAKUTA, S. MARUTA, 川上俊介，角田陽]
通讯作者：
川上俊介，角田陽
海外基金
