Expolatory Academic Research on In-water Sensor Platform by Silicon and Organic Material Integration
Expolatory Academic Research on In-water Sensor Platform by Silicon and Organic Material Integration
硅与有机材料集成水下传感器平台的探索性学术研究
批准号：
16H04345
负责人：
Mita Yoshio
金额：
$10.65万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2016
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2016-04-01 至 2019-03-31
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Fabrication of PbS QD/Silicon Hybrid Infrared Photodiode for LSI Platform
用于 LSI 平台的 PbS QD/硅混合红外光电二极管的制造
用于 LSI 平台的 PbS QD/硅混合红外光电二极管的制造
DOI：
10.1541/ieejsmas.138.307
发表时间：
2018
期刊：
IEEJ Transactions on Sensors and Micromachines
影响因子：
--
作者：
[Higo Akio, Mita Yoshio, Wang Haibin, Kubo Takaya, Segawa Hiroshi, Usami Naoto, Okamoto Yuki, Yamada Kentaro, Takeshiro Yudai, Sugiyama Masakazu]
通讯作者：
Sugiyama Masakazu
15-year educational experience on autonomous electronic information devices by flipped classroom and try-by-yourself methods
15年自主电子信息器件翻转课堂、亲自尝试教学经验
15年自主电子信息器件翻转课堂、亲自尝试教学经验
DOI：
10.1049/iet-cds.2016.0406
发表时间：
2017
期刊：
IET Circuits, Devices & Systems
影响因子：
--
作者：
[Mita Yoshio, Kawahara Yoshihiro]
通讯作者：
Kawahara Yoshihiro
高アスペクト比深掘りトレンチの均一な電解めっきを可能とする超臨界流体薄膜堆積法で作製された低抵抗銅薄膜種層
采用超临界流体薄膜沉积方法制备的低电阻铜薄膜种子层，可实现高深宽比深沟槽的均匀电解电镀
采用超临界流体薄膜沉积方法制备的低电阻铜薄膜种子层，可实现高深宽比深沟槽的均匀电解电镀
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[宇佐美 尚人, 太田 悦子, 肥後 昭男, 百瀬 健, 三田 吉郎]
通讯作者：
三田 吉郎
On-Chip MEMSアクチュエータ駆動のためのMEMS後加工5V標準CMOS素子を利用した30Vスイッチング回路(口頭発表)
使用 MEMS 后处理 5V 标准 CMOS 元件驱动片上 MEMS 执行器的 30V 开关电路（口头演示）
使用 MEMS 后处理 5V 标准 CMOS 元件驱动片上 MEMS 执行器的 30V 开关电路（口头演示）
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[K. Ueda, H. Itou and H. Asano, 岡本有貴]
通讯作者：
岡本有貴
Visualizing is Believing - Test Strucutures for Deep-Etched High Aspect Ratio MEMS Process and Device Characterization (Invited)
可视化是可信的——深蚀刻高深宽比 MEMS 工艺和器件表征的测试结构（特邀）
可视化是可信的——深蚀刻高深宽比 MEMS 工艺和器件表征的测试结构（特邀）
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[K. Ueda, S. Aichi, and H. Asano, Mita Yoshio]
通讯作者：
Mita Yoshio
共 65 条