Spin transport enginnering in surface and interface states of semiconductors
半导体表面和界面态的自旋输运工程
基本信息
- 批准号:16H06089
- 负责人:
- 金额:$ 16.56万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
- 财政年份:2016
- 资助国家:日本
- 起止时间:2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Strong evidence for d-electron spin transport at room temperature at a LaAlO3/SrTiO3 interface.
- DOI:10.1038/nmat4857
- 发表时间:2016-01
- 期刊:
- 影响因子:41.2
- 作者:R. Ohshima;Y. Ando;K. Matsuzaki;T. Susaki;M. Weiler;S. Klingler;H. Huebl;E. Shikoh;T. Shinjo;S. Goennenwein;M. Shiraishi
- 通讯作者:R. Ohshima;Y. Ando;K. Matsuzaki;T. Susaki;M. Weiler;S. Klingler;H. Huebl;E. Shikoh;T. Shinjo;S. Goennenwein;M. Shiraishi
Spin-charge interconversion in topological surface states
拓扑表面态中的自旋电荷相互转换
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Y. Ando and M. Shiraishi
- 通讯作者:Y. Ando and M. Shiraishi
Spin-orbit coupling induced by bismuth doping in silicon thin films
硅薄膜中铋掺杂引起的自旋轨道耦合
- DOI:10.1063/1.5046781
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:4
- 作者:F. Rortais;S. Lee;R. Ohshima;S. Dushenko;Y. Ando;and M. Shiraishi
- 通讯作者:and M. Shiraishi
Spin to charge conversion in graphene and carbon nanotube mats
石墨烯和碳纳米管垫中的自旋到电荷转换
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Yuichiro Ando;Sergey Dushenko;Ei Shigematsu;and Masashi Shiraishi
- 通讯作者:and Masashi Shiraishi
Bias dependence of spin accumulation voltages in non-degenerate Si spin valves
非简并硅自旋阀中自旋积累电压的偏置依赖性
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:S. Lee;F. Rortais;R. Ohshima;Y. Ando;S. Miwa;Y. Suzuki;H. Koike and M. Shiraishi
- 通讯作者:H. Koike and M. Shiraishi
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
Ando Yuichiro其他文献
Modulation of spin conversion in a 1.5?nm-thick Pd film by ionic gating
通过离子门控调节 1.5 nm 厚 Pd 薄膜中的自旋转换
- DOI:
10.1063/5.0015200 - 发表时间:
2020 - 期刊:
- 影响因子:4
- 作者:
Yoshitake Shin-Ichiro;Ohshima Ryo;Shinjo Teruya;Ando Yuichiro;Shiraishi Masashi - 通讯作者:
Shiraishi Masashi
Nonvolatile Switching of Berry Curvature Dipole in a Topological Crystalline Insulator at Room Temperature
室温拓扑晶体绝缘体中贝里曲率偶极子的非易失性切换
- DOI:
- 发表时间:
2023 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Nishijima Taiki;Watanabe Takuto;Sekiguchi Hiroaki;Ando Yuichiro;Shigematsu Ei;Ohshima Ryo;Kuroda Shinji;Shiraishi Masashi - 通讯作者:
Shiraishi Masashi
Spin transport in a lateral spin valve with a suspended Cu channel
具有悬浮铜通道的横向自旋阀中的自旋传输
- DOI:
10.1038/s41598-020-67762-4 - 发表时间:
2020 - 期刊:
- 影响因子:4.6
- 作者:
Matsuki Kenjiro;Ohshima Ryo;Leiva Livio;Ando Yuichiro;Shinjo Teruya;Tsuchiya Toshiyuki;Shiraishi Masashi - 通讯作者:
Shiraishi Masashi
Spin transport in n-type 3C Si-C observed in a lateral spin-pumping device
在横向自旋泵浦装置中观察到的 n 型 3C Si-C 中的自旋输运
- DOI:
10.1016/j.ssc.2019.113754 - 发表时间:
2020 - 期刊:
- 影响因子:2.1
- 作者:
Yoshii Shugo;Ohshima Ryo;Ando Yuichiro;Shinjo Teruya;Shiraishi Masashi;EiShigematsuRyoOhshimaYuichiroAndoTeruyaShinjoTsunenobuKimotoMasashiShiraishi - 通讯作者:
EiShigematsuRyoOhshimaYuichiroAndoTeruyaShinjoTsunenobuKimotoMasashiShiraishi
Ando Yuichiro的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
{{ truncateString('Ando Yuichiro', 18)}}的其他基金
Investigation of spin related phenomena in silicon
硅中自旋相关现象的研究
- 批准号:
19H02197 - 财政年份:2019
- 资助金额:
$ 16.56万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Thermal generation of charge and spin currents in topological surface states
拓扑表面态中电荷和自旋电流的热生成
- 批准号:
16K14231 - 财政年份:2016
- 资助金额:
$ 16.56万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
Three dimensional manipulation of spin current in silicon
硅中自旋流的三维操控
- 批准号:
25709027 - 财政年份:2013
- 资助金额:
$ 16.56万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
Realization of spin wave prism by atmic layer control techniques
利用原子层控制技术实现自旋波棱镜
- 批准号:
25630148 - 财政年份:2013
- 资助金额:
$ 16.56万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
相似海外基金
ヘテロ界面における軌道流及び軌道トルク生成機構の解明
异质界面轨道流和轨道扭矩产生机制的阐明
- 批准号:
22KJ2714 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 16.56万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
酸化物界面を用いた高効率スピン流電流変換の実証とスピントロニクスデバイスの創出
演示使用氧化物界面的高效自旋电流转换和自旋电子器件的创建
- 批准号:
22KJ0615 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 16.56万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
Investigation on novel spin properties at the interface of atomically controlled atomic layer crystal
原子控制原子层晶体界面新型自旋特性的研究
- 批准号:
22H01957 - 财政年份:2022
- 资助金额:
$ 16.56万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Si/Al界面のナノスケール傾斜制御と高効率スピン流生成に関する研究
Si/Al界面纳米级倾斜控制及高效自旋电流产生研究
- 批准号:
22K20359 - 财政年份:2022
- 资助金额:
$ 16.56万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
Spin effect in two-dimensional antiferromagnet interface
二维反铁磁体界面中的自旋效应
- 批准号:
20K14399 - 财政年份:2020
- 资助金额:
$ 16.56万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
spin-charge currents interconversion at molecule/metal interface
分子/金属界面处的自旋电荷电流相互转换
- 批准号:
19K15431 - 财政年份:2019
- 资助金额:
$ 16.56万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
Development of measuring techniques for electric and magnetic states at buried interface in spintronics materials using hard X-ray photoelectron spectroscopy
使用硬X射线光电子能谱测量自旋电子材料埋入界面的电和磁状态的技术的发展
- 批准号:
19K12655 - 财政年份:2019
- 资助金额:
$ 16.56万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Study on spin properties in conductive oxides to realize an interface-less spin transistor
研究导电氧化物的自旋特性以实现无界面自旋晶体管
- 批准号:
19K15433 - 财政年份:2019
- 资助金额:
$ 16.56万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
Bi/非磁性金属界面で顕在化するラシュバ効果を用いた新奇スピン変換物性の研究
利用 Bi/非磁性金属界面上明显的 Rashba 效应研究新型自旋转换特性
- 批准号:
18J22975 - 财政年份:2018
- 资助金额:
$ 16.56万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
Enhanced Functionality of Tunnel Magnetoresistive Devices by Interface Control of Fe3O4/Insulators
通过 Fe3O4/绝缘体的界面控制增强隧道磁阻器件的功能
- 批准号:
18H01465 - 财政年份:2018
- 资助金额:
$ 16.56万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)