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Investigation of spin related phenomena in silicon

Investigation of spin related phenomena in silicon
硅中自旋相关现象的研究
批准号：
19H02197
负责人：
Ando Yuichiro
金额：
$11.56万
依托单位：
Kyoto University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2019
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2019-04-01 至 2022-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-19H02197/
关键词：
シリコンスピントロニクススピン流界面ラシュバスピン操作

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通讯作者： Masayuki Matsushima;S. Miwa;S. Sakamoto;T. Shinjo;R. Ohshima;Y. Ando;Y. Fuseya;M. Shiraishi
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作者： [Koike, Hayato, Lee, Soobeom, Shiraishi, Masashi]
通讯作者： Shiraishi, Masashi
共 17 条
    Spin transport enginnering in surface and interface states of semiconductors
    • 批准号：
      16H06089
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
    • 资助金额：
      $16.56万
    • 财政年份：
      2016
    • 负责人：
      Ando Yuichiro
    • 依托单位：
      Kyoto University
    Thermal generation of charge and spin currents in topological surface states
    • 批准号：
      16K14231
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
    • 资助金额：
      $2.5万
    • 财政年份：
      2016
    • 负责人：
      Ando Yuichiro
    • 依托单位：
      Kyoto University
    Three dimensional manipulation of spin current in silicon
    Realization of spin wave prism by atmic layer control techniques
    海外基金