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Three dimensional manipulation of spin current in silicon

Three dimensional manipulation of spin current in silicon
硅中自旋流的三维操控
批准号：
25709027
负责人：
Ando Yuichiro
金额：
$16.97万
依托单位：
Kyoto University (2014-2015)Osaka University (2013)
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
财政年份：
2013
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2013-04-01 至 2016-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-25709027/
关键词：
スピン流シリコンスピン操作Spin MOSFETスピン流輸送シリコンスピントロニクススピン流制御

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DOI： --
发表时间： 2013
期刊：
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作者： [Sasaki, Tomoyuki, Suzuki, Toshio, Shiraishi, Masashi]
通讯作者： Shiraishi, Masashi
共 10 条
    Investigation of spin related phenomena in silicon
    • 批准号：
      19H02197
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额：
      $11.56万
    • 财政年份：
      2019
    • 负责人：
      Ando Yuichiro
    • 依托单位：
      Kyoto University
    Spin transport enginnering in surface and interface states of semiconductors
    • 批准号：
      16H06089
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
    • 资助金额：
      $16.56万
    • 财政年份：
      2016
    • 负责人：
      Ando Yuichiro
    • 依托单位：
      Kyoto University
    Thermal generation of charge and spin currents in topological surface states
    • 批准号：
      16K14231
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
    • 资助金额：
      $2.5万
    • 财政年份：
      2016
    • 负责人：
      Ando Yuichiro
    • 依托单位：
      Kyoto University
    Realization of spin wave prism by atmic layer control techniques
    海外基金