Development of an electrochemical advanced oxidation process using cuprous ion/hypohalogenous acid (Cu+/HOX) reaction system
Development of an electrochemical advanced oxidation process using cuprous ion/hypohalogenous acid (Cu+/HOX) reaction system
利用亚铜离子/次卤酸（Cu /HOX）反应体系开发电化学高级氧化工艺
批准号：
17K00603
负责人：
Kishimoto Naoyuki
金额：
$3.08万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2017
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2017-04-01 至 2020-03-31
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Technical Feasibility of Electrochemical Fenton-Type Process Using Cu(I)/HOCl System
使用 Cu(I)/HOCl 系统的电化学 Fenton 型工艺的技术可行性
使用 Cu(I)/HOCl 系统的电化学 Fenton 型工艺的技术可行性
DOI：
10.2965/jwet.17-023
发表时间：
2018
期刊：
Journal of Water and Environment Technology
影响因子：
--
作者：
[Saki ITO, Takehiro UKAWA, Naoyuki KISHIMOTO, Masaaki KATO, Hideo OTSU]
通讯作者：
Hideo OTSU
Cu(I)/HOCl反応系を用いた電解Fenton型プロセスにおける初期銅濃度の影響
Cu(I)/HOCl反应体系电解芬顿法中初始铜浓度的影响
Cu(I)/HOCl反应体系电解芬顿法中初始铜浓度的影响
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Saki ITO, Takehiro UKAWA, Naoyuki KISHIMOTO, Masaaki KATO, Hideo OTSU, 伊藤早紀，岸本直之，加藤昌明，大津秀緒]
通讯作者：
伊藤早紀，岸本直之，加藤昌明，大津秀緒
電解フローセルを用いたCu+/HOCl反応系電解Fenton型プロセスの開発
使用电解流通池的 Cu+/HOCl 反应系统开发电解 Fenton 型工艺
使用电解流通池的 Cu+/HOCl 反应系统开发电解 Fenton 型工艺
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Saki ITO, Takehiro UKAWA, Naoyuki KISHIMOTO, Masaaki KATO, Hideo OTSU, 伊藤早紀，岸本直之，加藤昌明，大津秀緒, 伊藤早紀，岸本直之]
通讯作者：
伊藤早紀，岸本直之
Efficacy of an electrochemical flow cell introduced into the electrochemical Fenton-type process using a Cu(I)/HOCl system
使用 Cu(I)/HOCl 系统引入电化学 Fenton 型工艺的电化学流动池的功效
使用 Cu(I)/HOCl 系统引入电化学 Fenton 型工艺的电化学流动池的功效
DOI：
10.2166/wst.2019.267
发表时间：
2019
期刊：
Water Science and Technology
影响因子：
2.7
作者：
[Kishimoto Naoyuki, Ito Saki, Kato Masaaki, Otsu Hideo]
通讯作者：
Otsu Hideo
Development of a photo-electrochemical advanced oxidation process using halide ions in wastewater
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批准号：26340064
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$3.16万
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财政年份：2014
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负责人：Kishimoto Naoyuki
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依托单位：