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Self-formation of InGaN quantum dots on SiO2/Si substrates by nano-droplet growth

Self-formation of InGaN quantum dots on SiO2/Si substrates by nano-droplet growth
通过纳米液滴生长在 SiO2/Si 衬底上自形成 InGaN 量子点
批准号:
17K06342
负责人:
Yamaguchi Koichi
金额:
$2.83万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2017
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2017-04-01 至 2020-03-31

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電気通信大学 山口浩一研究室
电气通信大学山口浩一实验室
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
Molecular Beam Epitaxy
分子束外延
DOI: 10.1016/b978-0-12-387839-7.00007-5
发表时间: 2013
期刊:
影响因子: --
作者: [Batool Z]
通讯作者: Batool Z
分子線堆積法によるSiOx/半導体基板上へのInAs量子ドットの自己形成(2)
通过分子束沉积在 SiOx/半导体基底上自形成 InAs 量子点 (2)
DOI: --
发表时间: 2018
期刊:
影响因子: --
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通讯作者: 坂本克好,曽我部東馬,山口浩一
Molecular Beam Deposition of High-Density InAs Quantum Dots on SiOx Films
SiOx 薄膜上高密度 InAs 量子点的分子束沉积
DOI: 10.7567/1347-4065/ab0def
发表时间: 2019
期刊: Japanese Journal of Applied Physics
影响因子: 1.5
作者: [A. Makaino, Y. Tanaka and K. Yamaguchi]
通讯作者: Y. Tanaka and K. Yamaguchi
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