Self-formation of InGaN quantum dots on SiO2/Si substrates by nano-droplet growth
Self-formation of InGaN quantum dots on SiO2/Si substrates by nano-droplet growth
批准号:
17K06342
负责人:
Yamaguchi Koichi
金额:
$2.83万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2017
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2017-04-01 至 2020-03-31
中文摘要
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
登录
查看更多内容
電気通信大学 山口浩一研究室
电气通信大学山口浩一实验室
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Molecular Beam Epitaxy
分子束外延
DOI:
10.1016/b978-0-12-387839-7.00007-5
发表时间:
2013
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Batool Z]
通讯作者:
Batool Z
分子線堆積法によるSiOx/半導体基板上へのInAs量子ドットの自己形成(2)
通过分子束沉积在 SiOx/半导体基底上自形成 InAs 量子点 (2)
DOI:
--
发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
--
作者:
[馬飼野彰宜, 坂本克好,曽我部東馬,山口浩一]
通讯作者:
坂本克好,曽我部東馬,山口浩一
Molecular Beam Deposition of High-Density InAs Quantum Dots on SiOx Films
SiOx 薄膜上高密度 InAs 量子点的分子束沉积
DOI:
10.7567/1347-4065/ab0def
发表时间:
2019
期刊:
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子:
1.5
作者:
[A. Makaino, Y. Tanaka and K. Yamaguchi]
通讯作者:
Y. Tanaka and K. Yamaguchi
Enhancement of Photoluminescence of InAs Quantum Dots grown on SiOx Films by Molecular Beam Deposition
分子束沉积增强 SiOx 薄膜上生长的 InAs 量子点的光致发光
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Y. Tanaka, K. Sasaki, A. Makaino and K. Yamaguchi]
通讯作者:
A. Makaino and K. Yamaguchi
共 12 条
海外基金