Development of high functional multiferroic thin films for application to a new electric field driven magneto-optical light modulator
Development of high functional multiferroic thin films for application to a new electric field driven magneto-optical light modulator
批准号:
17K06784
负责人:
Yoshimura Satoru
金额:
$3.0万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2017
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2017-04-01 至 2021-03-31
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反応性パルスDCスパッタリング法による品位(Bi1-xBax)FeO3強磁性強誘電薄膜の作製とその磁気および誘電特性
反应脉冲直流溅射法制备高质量(Bi1-xBax)FeO3铁磁铁电薄膜及其磁介电性能
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Ying Chen, Hubin Luo, Lei Wang, Tetsuo Mohri, 吉村哲]
通讯作者:
吉村哲
反応性パルスDCスパッタリング法を用いて作製した強磁性強誘電(Bi1-xLax)(Fe,Co)O3薄膜の磁気・誘電特性の評価
使用反应脉冲直流溅射方法制备的铁磁铁电 (Bi1-xLax)(Fe,Co)O3 薄膜的磁性和介电性能评估
DOI:
--
发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
--
作者:
[山本大地, M. Kuppan, 吉村哲]
通讯作者:
吉村哲
強磁性・強誘電/強磁性金属積層膜への電界印加による強磁性金属薄膜の磁化反転
通过对铁磁/铁电/铁磁金属层压薄膜施加电场来实现铁磁金属薄膜的磁化反转
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[W. Komiya, N. Takeuchi, Y. Yamanashi, N. Yoshikawa, 吉村哲,大下直哉,M. Kuppan]
通讯作者:
吉村哲,大下直哉,M. Kuppan
Trial to application of BiFeO3-based multiferroic films to new magnetic memory devices - Material research, fabrication of high-qualified films, and functional verification
BiFeO3基多铁性薄膜在新型磁存储器件中的应用尝试-材料研究、高质量薄膜的制备和功能验证
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[S. Yoshimura, M. Kuppan]
通讯作者:
M. Kuppan
Development of high-functional and high-quality multiferroic thin films for application of high performance magnetic devices driven by electric field
开发高功能、高质量多铁性薄膜,用于电场驱动的高性能磁性器件
DOI:
--
发表时间:
2020
期刊:
影响因子:
--
作者:
[S. Yoshimura]
通讯作者:
S. Yoshimura
共 18 条
Basic study of magnetic transcription of high-performance magnetic thin films by applying electric field to ferromagnetic and ferroelectric thin films
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批准号:20H02195
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$10.9万
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财政年份:2020
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负责人:Yoshimura Satoru
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依托单位:
Development of organometallic molecular ion beam deposition method for the stoichiometric crystal growth
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批准号:17H02997
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$5.82万
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财政年份:2017
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负责人:Yoshimura Satoru
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依托单位:
Indium implantations onto porous zeolites for the development of novel catalysts
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批准号:15K13406
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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资助金额:$1.5万
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财政年份:2015
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负责人:Yoshimura Satoru
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依托单位:
Application of ion beam induced chemical vapor deposition for SiC film formation
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批准号:25287154
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$6.49万
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财政年份:2013
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负责人:Yoshimura Satoru
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依托单位: