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Development of high functional multiferroic thin films for application to a new electric field driven magneto-optical light modulator

Development of high functional multiferroic thin films for application to a new electric field driven magneto-optical light modulator
开发用于新型电场驱动磁光光调制器的高功能多铁性薄膜
批准号:
17K06784
负责人:
Yoshimura Satoru
金额:
$3.0万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2017
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2017-04-01 至 2021-03-31

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反応性パルスDCスパッタリング法による品位(Bi1-xBax)FeO3強磁性強誘電薄膜の作製とその磁気および誘電特性
反应脉冲直流溅射法制备高质量(Bi1-xBax)FeO3铁磁铁电薄膜及其磁介电性能
DOI: --
发表时间: 2017
期刊:
影响因子: --
作者: [Ying Chen, Hubin Luo, Lei Wang, Tetsuo Mohri, 吉村哲]
通讯作者: 吉村哲
反応性パルスDCスパッタリング法を用いて作製した強磁性強誘電(Bi1-xLax)(Fe,Co)O3薄膜の磁気・誘電特性の評価
使用反应脉冲直流溅射方法制备的铁磁铁电 (Bi1-xLax)(Fe,Co)O3 薄膜的磁性和介电性能评估
DOI: --
发表时间: 2018
期刊:
影响因子: --
作者: [山本大地, M. Kuppan, 吉村哲]
通讯作者: 吉村哲
強磁性・強誘電/強磁性金属積層膜への電界印加による強磁性金属薄膜の磁化反転
通过对铁磁/铁电/铁磁金属层压薄膜施加电场来实现铁磁金属薄膜的磁化反转
DOI: --
发表时间: 2019
期刊:
影响因子: --
作者: [W. Komiya, N. Takeuchi, Y. Yamanashi, N. Yoshikawa, 吉村哲,大下直哉,M. Kuppan]
通讯作者: 吉村哲,大下直哉,M. Kuppan
Trial to application of BiFeO3-based multiferroic films to new magnetic memory devices - Material research, fabrication of high-qualified films, and functional verification
BiFeO3基多铁性薄膜在新型磁存储器件中的应用尝试-材料研究、高质量薄膜的制备和功能验证
DOI: --
发表时间: 2019
期刊:
影响因子: --
作者: [S. Yoshimura, M. Kuppan]
通讯作者: M. Kuppan
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    Basic study of magnetic transcription of high-performance magnetic thin films by applying electric field to ferromagnetic and ferroelectric thin films
    • 批准号:
      20H02195
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额:
      $10.9万
    • 财政年份:
      2020
    • 负责人:
      Yoshimura Satoru
    • 依托单位:
    Development of organometallic molecular ion beam deposition method for the stoichiometric crystal growth
    • 批准号:
      17H02997
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额:
      $5.82万
    • 财政年份:
      2017
    • 负责人:
      Yoshimura Satoru
    • 依托单位:
    Indium implantations onto porous zeolites for the development of novel catalysts
    • 批准号:
      15K13406
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
    • 资助金额:
      $1.5万
    • 财政年份:
      2015
    • 负责人:
      Yoshimura Satoru
    • 依托单位:
    Application of ion beam induced chemical vapor deposition for SiC film formation
    • 批准号:
      25287154
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额:
      $6.49万
    • 财政年份:
      2013
    • 负责人:
      Yoshimura Satoru
    • 依托单位: