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Application of ion beam induced chemical vapor deposition for SiC film formation
离子束诱导化学气相沉积在SiC薄膜形成中的应用
基本信息
- 批准号：25287154
- 负责人：
- 金额：$ 6.49万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份：2013
- 资助国家：日本
- 起止时间：2013-04-01 至 2016-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Surface modification of poly(methyl methacrylate) by hydrogen-plasma exposure and its sputtering characteristics by ultraviolet light irradiation
氢等离子体曝光聚甲基丙烯酸甲酯表面改性及其紫外光照射溅射特性
- DOI：10.7567/jjap.52.090201
- 发表时间：2013
- 期刊：
- 影响因子：1.5
- 作者：S. Yoshimura;K. Ikuse;S. Sugimoto;K. Murai;K. Honjo;M. Kiuchi;S. Hamaguchi
- 通讯作者：S. Hamaguchi
ゼオライトへの低エネルギーインジウムイオン照射と触媒効果
低能铟离子辐照及其对沸石的催化作用
- DOI：
- 发表时间：2014
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：吉村智;木内正人;西本能弘;安田誠;馬場章夫;浜口智志
- 通讯作者：浜口智志
Computed multiple tomography for translated field reversed configuration plasma
平移场反向构型等离子体的计算机多重断层扫描
- DOI：10.1109/tps.2014.2321399
- 发表时间：2014
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：S. Yoshimura;S. Sugimoto;S. Okada
- 通讯作者：S. Okada
Low energy indium or gallium iom beam injection to SiO2 thin films for development of novel catalysts
将低能铟或镓离子束注入 SiO2 薄膜以开发新型催化剂
- DOI：
- 发表时间：2013
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：S. Yoshimura;M. Kiuchi;Y. Nishimoto;M. Yasuda;A. Baba;S. Hamaguchi
- 通讯作者：S. Hamaguchi
Low Energy Indium or Gallium Ion Implantations to SiO<sub>2 </sub>Thin Films for Development of Novel Catalysts
低能铟或镓离子注入 SiO<sub>2 </sub>薄膜用于新型催化剂的开发
- DOI：10.1380/ejssnt.2014.197
- 发表时间：2014
- 期刊：
- 影响因子：0.7
- 作者：S. Yoshimura;M. Kiuchi;Y. Nishimoto;M. Yasuda;A. Baba;S. Hamaguchi
- 通讯作者：S. Hamaguchi
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI：
{{ item.doi }} - 发表时间：
{{ item.publish_year }} - 期刊：
- 影响因子：{{ item.factor }}
- 作者：
{{ item.authors }} - 通讯作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ patent.updateTime }}
Yoshimura Satoru其他文献
Low-energy mass-selected ion beam production of fragments from tetraethylorthosilicate for the formation of silicon dioxide film
低能质量选择离子束生产原硅酸四乙酯碎片以形成二氧化硅薄膜
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Time-resolved diffusion technique can detect conformation dynamics of photosensor proteins
时间分辨扩散技术可以检测光传感器蛋白的构象动力学
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- 发表时间：
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- 影响因子：0
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M. Terazima
凝縮化学系の分子理論
凝聚化学体系的分子理论
- DOI：
- 发表时间：
2022 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
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2-Phenylbenzo[b]phospholium saltsの蛍光特性変化に関する理論研究
2-苯基苯并[b]磷盐荧光性质变化的理论研究
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- 发表时间：
2022 - 期刊：
- 影响因子：0
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鈴木 さら; 今村 洸輔; 東 雅大; 佐藤 啓文
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{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI：
{{ item.doi }} - 发表时间：
{{ item.publish_year }} - 期刊：
- 影响因子：{{ item.factor }}
- 作者：
{{ item.authors }} - 通讯作者：
{{ item.author }}
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$ 6.49万 - 项目类别：
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Development of organometallic molecular ion beam deposition method for the stoichiometric crystal growth
化学计量晶体生长有机金属分子离子束沉积方法的发展
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17H02997 - 财政年份：2017
- 资助金额：
$ 6.49万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Development of high functional multiferroic thin films for application to a new electric field driven magneto-optical light modulator
开发用于新型电场驱动磁光光调制器的高功能多铁性薄膜
- 批准号：
17K06784 - 财政年份：2017
- 资助金额：
$ 6.49万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Indium implantations onto porous zeolites for the development of novel catalysts
将铟注入多孔沸石以开发新型催化剂
- 批准号：
15K13406 - 财政年份：2015
- 资助金额：
$ 6.49万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
相似海外基金
難病データベースとイオンビーム工学技術を応用した全身性強皮症の病態解明
利用疑难病数据库和离子束工程技术阐明系统性硬皮病的病理学
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24K11594 - 财政年份：2024
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$ 6.49万 - 项目类别：
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- 批准号：
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$ 6.49万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
レーザープラズマの集束・捕獲による大強度重イオンビーム生成技術の開発
开发聚焦捕获激光等离子体的高强度重离子束发生技术
- 批准号：
23K21834 - 财政年份：2024
- 资助金额：
$ 6.49万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
イオンビーム照射の高圧場を利用した超高硬度オキシナイトライドの合成
离子束辐照高压场合成超高硬度氮氧化物
- 批准号：
24K01212 - 财政年份：2024
- 资助金额：
$ 6.49万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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相对论性离子束激光电荷转换入射研究
- 批准号：
23K20406 - 财政年份：2024
- 资助金额：
$ 6.49万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
ナノ柱状構造形成と密着向上のためのポリイミド表面改質手法の開発
开发聚酰亚胺表面改性方法以形成纳米柱状结构并提高附着力
- 批准号：
23K04408 - 财政年份：2023
- 资助金额：
$ 6.49万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
超広帯域電気光学効果を用いた新規超高速走査型プローブ顕微鏡法の確立
利用超宽带电光效应建立新型超快扫描探针显微镜方法
- 批准号：
22KJ0409 - 财政年份：2023
- 资助金额：
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Heavy-Ion Acceleration at J-PARC
J-PARC 的重离子加速
- 批准号：
23K03440 - 财政年份：2023
- 资助金额：
$ 6.49万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
レーザー駆動イオン加速による高電離・短パルス重イオンビーム輸送ダイナミクスの解明
通过激光驱动离子加速阐明高电离和短脉冲重离子束的输运动力学
- 批准号：
22KJ2402 - 财政年份：2023
- 资助金额：
$ 6.49万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows