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Indium implantations onto porous zeolites for the development of novel catalysts

Indium implantations onto porous zeolites for the development of novel catalysts
将铟注入多孔沸石以开发新型催化剂
批准号:
15K13406
负责人:
Yoshimura Satoru
金额:
$1.5万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份:
2015
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2015-04-01 至 2018-03-31

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Low-energy SiC2H6+ and SiC3H9+ ion beam productions by the mass-selection of fragments produced form hexamethyldisilane for SiC film formations
通过对六甲基乙硅烷产生的碎片进行质量选择来生产低能 SiC2H6 和 SiC3H9 离子束,以形成 SiC 薄膜
DOI: 10.1063/1.4972206
发表时间: 2016
期刊: AIP Advances
影响因子: 1.6
作者: [S. Yoshimura, S. Sugimoto, K. Murai, M. Kiuchi]
通讯作者: M. Kiuchi
Deposition of indium nanoparticles on powdered material by pulse arc plasma to synthesize catalysts for Friedel-Crafts alkylation
脉冲电弧等离子体在粉末材料上沉积铟纳米颗粒合成傅克烷基化催化剂
DOI: --
发表时间: 2018
期刊: e-Journal of Surface Science and Nanotechnology
影响因子: 0.7
作者: [S. Yoshimura, Y. Nishimoto, S. Sugimoto, M. Kiuchi, M. Yasuda]
通讯作者: M. Yasuda
DOI: --
发表时间: 2017
期刊:
影响因子: --
作者: [吉村智, 杉本敏司, 木内正人]
通讯作者: 木内正人
DOI: --
发表时间: 2016
期刊:
影响因子: --
作者: [吉村智, 西本能弘, 木内正人, 安田誠]
通讯作者: 安田誠
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    Basic study of magnetic transcription of high-performance magnetic thin films by applying electric field to ferromagnetic and ferroelectric thin films
    • 批准号:
      20H02195
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额:
      $10.9万
    • 财政年份:
      2020
    • 负责人:
      Yoshimura Satoru
    • 依托单位:
    Development of organometallic molecular ion beam deposition method for the stoichiometric crystal growth
    • 批准号:
      17H02997
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额:
      $5.82万
    • 财政年份:
      2017
    • 负责人:
      Yoshimura Satoru
    • 依托单位:
    Development of high functional multiferroic thin films for application to a new electric field driven magneto-optical light modulator
    • 批准号:
      17K06784
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $3.0万
    • 财政年份:
      2017
    • 负责人:
      Yoshimura Satoru
    • 依托单位:
    Application of ion beam induced chemical vapor deposition for SiC film formation
    • 批准号:
      25287154
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额:
      $6.49万
    • 财政年份:
      2013
    • 负责人:
      Yoshimura Satoru
    • 依托单位:
    海外基金