课题基金 / 基金详情

Development of organometallic molecular ion beam deposition method for the stoichiometric crystal growth

Development of organometallic molecular ion beam deposition method for the stoichiometric crystal growth
化学计量晶体生长有机金属分子离子束沉积方法的发展
批准号:
17H02997
负责人:
Yoshimura Satoru
金额:
$5.82万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份:
2017
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2017-04-01 至 2020-03-31

项目摘要

项目成果

Yoshimura Satoru的其他基金

相似基金

相关文献

中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
解離フラグメントによる有機金属イオンビームの生成とストイキオメトリ結晶成長
通过离解碎片和化学计量晶体生长产生有机金属离子束
DOI: --
发表时间: 2018
期刊:
影响因子: --
作者: [吉村智, 杉本敏司, 竹内孝江, 村井健介, 木内正人]
通讯作者: 木内正人
Low-energy mass-selected ion beam deposition of silicon carbide with Bernas-type ion source using methylsilane
使用甲基硅烷的伯纳斯型离子源低能质量选择离子束沉积碳化硅
DOI: 10.1063/1.5116614
发表时间: 2019
期刊: AIP Advances
影响因子: 1.6
作者: [S. Yoshimura, S. Sugimoto, T. Takeuchi, K. Murai, M. Kiuchi]
通讯作者: M. Kiuchi
質量分離有機金属分子イオンビーム堆積法のストイキオメトリ成膜への応用
质量分离有机金属分子离子束沉积方法在化学计量成膜中的应用
DOI: --
发表时间: 2019
期刊:
影响因子: --
作者: [吉村智, 杉本敏司, 竹内孝江, 村井健介, 木内正人]
通讯作者: 木内正人
Low-energy mass-selected ion beam production of fragments from tetraethylorthosilicate for the formation of silicon dioxide film
低能质量选择离子束生产原硅酸四乙酯碎片以形成二氧化硅薄膜
DOI: 10.1016/j.tsf.2018.04.003
发表时间: 2018
期刊: Thin Solid Films
影响因子: 2.1
作者: [Yoshimura Satoru, Sugimoto Satoshi, Takeuchi Takae, Murai Kensuke, Kiuchi Masato]
通讯作者: Kiuchi Masato
12
    Basic study of magnetic transcription of high-performance magnetic thin films by applying electric field to ferromagnetic and ferroelectric thin films
    • 批准号:
      20H02195
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额:
      $10.9万
    • 财政年份:
      2020
    • 负责人:
      Yoshimura Satoru
    • 依托单位:
    Development of high functional multiferroic thin films for application to a new electric field driven magneto-optical light modulator
    • 批准号:
      17K06784
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $3.0万
    • 财政年份:
      2017
    • 负责人:
      Yoshimura Satoru
    • 依托单位:
    Indium implantations onto porous zeolites for the development of novel catalysts
    • 批准号:
      15K13406
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
    • 资助金额:
      $1.5万
    • 财政年份:
      2015
    • 负责人:
      Yoshimura Satoru
    • 依托单位:
    Application of ion beam induced chemical vapor deposition for SiC film formation
    • 批准号:
      25287154
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额:
      $6.49万
    • 财政年份:
      2013
    • 负责人:
      Yoshimura Satoru
    • 依托单位:
    海外基金