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Development of novel crystal growth method for realization of mono-silicon clathrate single crystal

Development of novel crystal growth method for realization of mono-silicon clathrate single crystal
开发新的晶体生长方法以实现单晶硅包合物单晶
批准号:
18H01887
负责人:
Morito Haruhiko
金额:
$11.48万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份:
2018
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2018-04-01 至 2021-03-31

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通讯作者: 藤原航三
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发表时间: 2019
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通讯作者: 森戸春彦
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    Establishment of crystal growth method of silicon clathrate aiming at creation of innovative silicon substrate
    • 批准号:
      16H06123
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
    • 资助金额:
      $16.06万
    • 财政年份:
      2016
    • 负责人:
      Morito Haruhiko
    • 依托单位:
    海外基金