Development of novel amorphous oxide semiconductor with high electron mobility through anion substitution
通过阴离子取代开发具有高电子迁移率的新型非晶氧化物半导体
基本信息
- 批准号:18H02054
- 负责人:
- 金额:$ 10.4万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份:2018
- 资助国家:日本
- 起止时间:2018-04-01 至 2021-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
W:SnO2薄膜における高移動度の起源
W:SnO2 薄膜高迁移率的起源
- DOI:
- 发表时间:2021
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:福本 通孝;廣瀬 靖;中尾 祥一郎;木村 耕治;林 好一;杉澤 悠紀;関場 大一郎;長谷川 哲也
- 通讯作者:長谷川 哲也
Thermoelectric Properties of Amorphous ZnOxNy Thin Films Fabricated at Room Temperature
室温非晶ZnOxNy薄膜的热电性能
- DOI:
- 发表时间:2021
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Yasushi Hirose;Masato Tsuchii;Kei Shigematsu;Yohei Kakefuda;Takao Mori;and Tetsuya Hasegawa;西海 信之,孫 鶴,城石 英伸,松嶋 雄太,Philipp Stadler,吉田 司;Yasushi Hirose
- 通讯作者:Yasushi Hirose
非晶質酸窒化亜鉛(a-ZnON)薄膜の熱電特性
非晶氮氧化锌(a-ZnON)薄膜的热电性能
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:廣瀬 靖;土井 雅人;重松 圭;掛札 洋平;森 孝雄;長谷川 哲也
- 通讯作者:長谷川 哲也
Development of thin film transistor using an amorphous mixed-anion semiconductor a-ZnOS
使用非晶混合阴离子半导体a-ZnOS的薄膜晶体管的开发
- DOI:
- 发表时间:2020
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Zhen Chen;Yasushi Hirose;Tetsuya Hasegawa
- 通讯作者:Tetsuya Hasegawa
窒化物厚膜をターゲットに用いたパルスレーザー堆積法によるZn3N2エピタキシャル薄膜の作製
以氮化物厚膜为靶材脉冲激光沉积制备Zn3N2外延薄膜
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:土井 雅人;朱 雨庭;中尾 祥一郎;廣瀬 靖;杉澤 悠紀;菊田 純一;関場 大一郎;長谷川 哲也
- 通讯作者:長谷川 哲也
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- 影响因子:0
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HASEGAWA Tetsuya
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