EUVリソグラフィ×自己組織化による分子サイズに迫る超極微細加工技術の創製

使用 EUV 光刻和自组装创建接近分子尺寸的超精细加工技术

• 批准号: 21KK0262
• 负责人: 山本 洋揮
• 金额: $ 9.9万
• 依托单位: National Institutes for Quantum Science and Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Fund for the Promotion of Joint International Research (Fostering Joint International Research (A))
• 财政年份: 2022
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2022 至 2024
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-21KK0262/
• 关键词: 材料・加工; 半導体微細化; ナノ加工; ナノ材料; レジスト

ナノ領域の超微細加工技術の開発は半導体産業のみならず、環境・エネルギー、医療、ライフサイエンス等の分野を支える重要な技術である。近年、トップダウンの代表であるリソグラフィ技術の限界が唱え始められ、それを凌駕する微細加工技術の研究開発が国内外で進められている。本研究では、開発したメタルレジストを活用したナノ配向ガイドとブロック共重合体の自己組織化を利用したこれまでにない分子サイズのミクロ相分離を組合せたトップダウンとボトムアップの融合による分子サイズに迫る微細加工技術の創出とそのリソグラフィ等の応用に挑戦する。令和4年度は量子ビームによるメタルレジストの加工によりナノ配向ガイドの作製を試みた。具体的には、金属酸化物ナノ粒子のコアとしてEUV吸収係数が高い3種類の金属コアおよび3種類のリガンドを選定し、計9種類のナノ配向ガイドの作製を100keVの電子線描画装置を使って試みた結果、ガイドパターンとして機能することを明らかにした。また、次年度のオーストラリア渡航へ向けた事務手続きおよび受け入れ先の共同研究者と研究や渡航に関してメールで議論・調整を行った。具体的には、オーストラリア渡航期間中の業務内容の相談、研究滞在ビザの申請に必要な書類の準備、航空券等の見積もりを行った。また、滞在予定先の研究協力者と渡航開始日および渡航期間の調整等といった事務的な打ち合わせを行い、オーストラリアにおける新型コロナウイルスの感染状況がよくなっているうちに、渡航および研究を開始するという認識を共有した。さらに、国際共同研究展開の準備として、日本学術振興会が主催するJSPS-LEADSNET事業研究者交流会に参加し、海外に滞在したことがある研究者から研究および現地での生活についての情報を収集した。

The development of ultra-micro machining technology in the field of semiconductor industry is an important technology in the field of semiconductor industry, environment, environment, medicine, science and technology. In recent years, representatives of micromachining technology have made progress both at home and abroad. This study aims to develop and utilize the self-organization of molecular alignment complexes and the application of molecular alignment complexes to the creation and application of micromachining techniques. In the fourth year of this year, we will try to adjust the orientation of the machine. Specifically, the EUV absorption coefficient of metal acid particles is high, and the EUV absorption coefficient of three kinds of metal particles is high. The EUV absorption coefficient of three kinds of metal particles is high. The next year's survey was conducted by a co-researcher and a consultant. Specific information such as the content of the business, the preparation of the necessary books and airline tickets for the application period, etc. The infection status of the new type of computer is shared among the research collaborators, the start date of the flight, the adjustment of the flight duration, etc. JSPS-LEADSNET Business Researchers Exchange Meeting, hosted by Japan Society for the Promotion of Science, to gather information on research and local life for overseas researchers

项目成果

Recent Research activity for EUV Lithography at QST

QST 最近的 EUV 光刻研究活动

• 发表时间: 2022
• 作者: Yamamoto Hiroki;Hosaka Yuji;Yoshimura Kimio;Ishino Masahiko;Thanh-Hung Dinh;Nishikino Masaharu;Maekawa Yasunari
• 通讯作者: Maekawa Yasunari