EUVリソグラフィ×自己組織化による分子サイズに迫る超極微細加工技術の創製

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ナノ領域の超微細加工技術の開発は半導体産業のみならず、環境・エネルギー、医療、ライフサイエンス等の分野を支える重要な技術である。近年、トップダウンの代表であるリソグラフィ技術の限界が唱え始められ、それを凌駕する微細加工技術の研究開発が国内外で進められている。本研究では、開発したメタルレジストを活用したナノ配向ガイドとブロック共重合体の自己組織化を利用したこれまでにない分子サイズのミクロ相分離を組合せたトップダウンとボトムアップの融合による分子サイズに迫る微細加工技術の創出とそのリソグラフィ等の応用に挑戦する。令和4年度は量子ビームによるメタルレジストの加工によりナノ配向ガイドの作製を試みた。具体的には、金属酸化物ナノ粒子のコアとしてEUV吸収係数が高い3種類の金属コアおよび3種類のリガンドを選定し、計9種類のナノ配向ガイドの作製を100keVの電子線描画装置を使って試みた結果、ガイドパターンとして機能することを明らかにした。また、次年度のオーストラリア渡航へ向けた事務手続きおよび受け入れ先の共同研究者と研究や渡航に関してメールで議論・調整を行った。具体的には、オーストラリア渡航期間中の業務内容の相談、研究滞在ビザの申請に必要な書類の準備、航空券等の見積もりを行った。また、滞在予定先の研究協力者と渡航開始日および渡航期間の調整等といった事務的な打ち合わせを行い、オーストラリアにおける新型コロナウイルスの感染状況がよくなっているうちに、渡航および研究を開始するという認識を共有した。さらに、国際共同研究展開の準備として、日本学術振興会が主催するJSPS-LEADSNET事業研究者交流会に参加し、海外に滞在したことがある研究者から研究および現地での生活についての情報を収集した。