レーザープラズマ極端紫外光による生体適合性材料の3次元高アスペクトマイクロ加工

使用激光等离子体极紫外光对生物相容性材料进行 3D 高纵横微加工

基本信息

  • 批准号:
    22K04755
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.58万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2022
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2022-04-01 至 2025-03-31
  • 项目状态:
    未结题

项目摘要

本課題では、波長10ナノメートル前後の光(極端紫外光)を加工用光源とし、これを用いて生体適合性材料を加工する方法を研究する。とくに、波長が短いことを利用して、高アスペクト比の3次元構造を作製することを目標とする。加工用光源として、レーザー光をターゲット材料に集光照射してプラズマを発生し、そのプラズマから輻射されるパルス幅10ナノ秒の極端紫外光を用いる。発生した極端紫外光を集光し、被加工物に照射する。これにより、被加工物表面を削り取るアブレーション加工を行う。従来の中赤外から紫外のレーザーを用いた加工と比較し、波長が短いためアスペクト比が高い加工が期待できる。また、光子エネルギーが大きいため、熱溶融、表面に発生したプラズマによるエッチングなどによる加工形状の劣化を抑止できる可能性がある。本研究では、ステンシルマスクを通して極端紫外光を厚さ10マイクロメートルのシリコーンエラストマシートに照射し、開口径が数マイクロメートルの貫通孔を加工できることを示した。この材料の場合、10マイクロメートルのシートに貫通孔を作製する範囲では、加工深さは照射回数に比例する。また、1ショット当たりの加工深さDは、ある相互作用定数aを用いて光強度Iと D=1/a ln(I/I0) の関係にある。さらに、サブマイクロメートルのスケールでの加工形状を明らかにするため、一辺が20マイクロメートルの四角形の開口が配列しているマスクを通して加工を行った。加工後、複数の角度から撮影した走査型電子顕微鏡写真を3次元再構成した。概略長方形の形状に削られるが、照射回数を増やすと壁面が垂直に近付くことが明らかになった。以上の研究により、加工形状はビームの強度分布、フレネル回折、強度と加工深さの関係、照射回数で決まっていることを明らかにした。今後これに基づき、設計した形状に加工することを目指す。
This topic で は, wavelength 10 ナ ノ メ ー ト ル の light (extreme ultraviolet) を before and after processing with light と し, こ れ を with い て body fit raw materials を processing す る methods を す る. と く に, short wavelength が い こ と を using し て, high ア ス ペ ク ト than の す the 3 dimensional structure を cropping る こ と を target と す る. Processing with light と し て, レ ー ザ ー light を タ ー ゲ ッ materials に ト light し て プ ラ ズ マ を 発 し, そ の プ ラ ズ マ か ら radiation さ れ る パ ル ス picture 10 ナ の extreme ultraviolet を ノ seconds with い る. The occurrence of た extreme ultraviolet light を concentrated <s:1> and the processed object に irradiated する. <s:1> れによ れによ れによ, を cut を from the surface of the workpiece, るアブレ るアブレ ショ ショ <s:1> <s:1> process を rows う. 従 to の in red outside か ら ultraviolet の レ ー ザ ー を with い た processing と compare し, short wavelength が い た め ア ス ペ ク ト higher than が い processing が expect で き る. ま た, photon エ ネ ル ギ ー が big き い た め, hot melt, surface に 発 raw し た プ ラ ズ マ に よ る エ ッ チ ン グ な ど に よ る processing shape の degradation を dampening で き る possibility が あ る. This study で は, ス テ ン シ ル マ ス ク を tong し て extreme ultraviolet を thick さ 10 マ イ ク ロ メ ー ト ル の シ リ コ ー ン エ ラ ス ト マ シ ー ト し に exposure, open caliber が マ イ ク ロ メ ー ト ル の communicating pores を processing で き る こ と を shown し た. こ の material の occasions, 10 マ イ ク ロ メ ー ト ル の シ ー ト に communicating pores を cropping す る van 囲 で は, deep processing さ は exposure to several に proportion す る. ま た, 1 シ ョ ッ ト when た り の machining deep さ D は, あ る destiny a を interaction with い て light intensity I と D = 1 / a ln (I/I0) の masato is に あ る. さ ら に, サ ブ マ イ ク ロ メ ー ト ル の ス ケ ー ル で の processing shape を Ming ら か に す る た め, a 辺 が 20 マ イ ク ロ メ ー ト ル の quadrangle の openings が match column し て い る マ ス ク を tong し て processing line を っ た. After processing, the multiple block angles are ら, the shadow is た, the walking-type electronic 顕 micro-mirror photo is を, and then the three-dimensional composition is <s:1> た. Rough shape of rectangular の に cut ら れ る が, exposure to several を raised や す と が に nearly vertical wall pay く こ と が Ming ら か に な っ た. Above の research に よ り, processing shape は ビ ー ム の intensity distribution, フ レ ネ ル inflexion, strength と machining deep さ の masato, exposure to several で definitely ま っ て い る こ と を Ming ら か に し た. In the future, <s:1> れに will be based on づ れに, design <s:1> shapes に, and process する とを とを とを fingers す.

项目成果

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Ablation of polydimethylsiloxane elastomer using laser-plasma EUV radiation
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Kotaro Oguchi;Erika Kira;Hikari Urai;Tetsuya Makimura
  • 通讯作者:
    Tetsuya Makimura
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  • 通讯作者:
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  • 通讯作者:
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