遠紫外線照射によるFusobacterium nucleatumの殺菌効果の検討

远紫外线照射对具核梭杆菌的杀菌效果检验

基本信息

  • 批准号:
    22K07985
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.75万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2022
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2022-04-01 至 2025-03-31
  • 项目状态:
    未结题

项目摘要

ウシオ電機が開発したピーク波長が222nmの遠紫外線照射装置はエキシマランプと特殊なフィルターの組み合わせによりできている。人体に有害な240nm以上の紫外線はカットされているため、DNA傷害を起こさず安全性が高い。この遠深紫外線が歯周病菌を殺菌するだけでなく、歯周病菌と菌体外物質の複合体からなるバイオフィルムを破壊することを明らかにした。歯周病菌のFusobacterium nucleatumとPorphyromonas gingivalisを液体培地で培養することによって、バイオフィルムを形成させた。その上で遠紫外線を照射することによって、通常の紫外線では認めない、バイオフィルムの破壊が確認された。バイオフォルムの量はクリスタルバイオレット染色で評価可能であり、著明に減少した。このバイオフィルムの減少は共焦点レーザー顕微鏡による3次元画像でバイオフィルムの厚さの減少によって、確認された。また、走査型電子顕微鏡においても遠紫外線照射後の細菌は細胞表面に変化が生じていることが明らかになった。殺菌機序としては、DNA傷害の指標である、ピリミジン2量体の形成が少ないことが明らかとなり、通常の紫外線が誘導するDNA傷害とはことなった機序が考えられる。Syto9/PI染色でも、通常の紫外線を照射した菌ではPIの取り込みは認めないのに対して、遠紫外線を照射した菌については明らかなPIの取り込みが認められた。PIは細胞膜非透過性のDNA結合色素であるため、遠紫外線照射によって、細胞膜に影響を与えた可能性が高い。歯周病菌の殺菌とバイオフィルムの破壊を同時に行いうる遠紫外線を応用した歯周病治療器の開発を目指し、検討を続ける。
A far ultraviolet irradiation device with a wavelength of 222nm is developed by Sika Electric Co., Ltd.エキシマランプとSpecial なフィルターの组み合わせによりできている. Ultraviolet rays above 240nm are not harmful to the human body, and are highly safe when damaging DNA.このFar and deep ultraviolet rays are used to sterilize and kill bacteria around the body The complex of matter is a complex material. Fusobacterium nucleatum and Porphyromonas gingivalis are cultivated in liquid culture and cultivated in liquid culture.その上でFar ultraviolet light irradiation することによって, normal ultraviolet light ではidentification めない, and バイオフィルムの波壊がconfirmation された.バイオオフォルムのquantity はクリスタルバイオレット dyeing 価possible であり、 に に した.このバイオフィルムのReduce はConfocal レーザー顕Microscope による3 times The original image is thick and thick, and it is reduced and confirmed.また, walk-through electron microscopy, においても, the bacterial cell surface is transformed after being irradiated with far ultraviolet rays. Sterilization machine sequence, DNA damage indicator, DNA damage indicator, and ピリミジン2 amount of body forming, no less Ming らかとなり, normal UV ray induced するDNA damage とはことなったMechanical sequence がtest えられる. Syto9/PI staining, normal UV irradiation, PI のtake, り込みは recognition, めないのに対して, far ultraviolet を irradiation した bacterium については明らかなPIのtake り込みがcognize められた. PI is a DNA-binding pigment that is non-permeable to the cell membrane, a high possibility of far ultraviolet irradiation, and a high possibility of affecting the cell membrane. The sterilization of peripheral disease germs is done at the same time, and the far ultraviolet rays are used at the same time.

项目成果

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专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
ESBL産生大腸菌に対する遠紫外線の殺菌効果について
关于远紫外线对产ESBL大肠杆菌的杀菌作用
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    福田 総一郎;西川 潤;窪田 直人;西岡 光昭;末廣 寛;山崎 隆弘
  • 通讯作者:
    山崎 隆弘
紫外線照射装置および紫外線照射方法
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
The bactericidal effect of far-UVC on ESBL-producing Escherichia coli
远紫外线对产ESBL大肠杆菌的杀菌作用
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Yuki Kobayashi;Jun Nishikawa;Soichiro Fukuda;Yumi Okabe;Tomohiro Fujii;Naoto Kubota;Yuka Tanaka;Mio Tsurui;Ken-Ichiro Otsuyama;Hidehiro Tsuneoka
  • 通讯作者:
    Hidehiro Tsuneoka
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