磁場援用アーク放電プラズマによるダイヤモンドの気相合成に関する研究
磁场辅助电弧放电等离子体气相合成金刚石的研究
基本信息
- 批准号:08750136
- 负责人:
- 金额:$ 0.64万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
- 财政年份:1996
- 资助国家:日本
- 起止时间:1996 至 无数据
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
アーク放電プラズマジェットCVD法はダイヤモンドを高速に合成できる特徴をもつが,厚さが不均一で結晶性の不均質な膜が生成しやすい欠点がある.この欠点を改善するためには,生成されるプラズマの状態を一様にすることが必要である.本研究は,イオンおよび電子を含む電離気体であるプラズマが磁場の影響を受けることを利用し,電磁コイルを備えたアーク放電プラズマジェットCVD装置を設計,試作し,アークおよびプラズマジェットに磁場を印加してダイヤモンド合成を行い,得られる膜の形状や結晶性について評価し,アーク放電プラズマジェットCVD法によるダイヤモンド合成に与える磁場の影響を検討したものである.試作した磁場援用アーク放電プラズマジェットCVD装置は直流プラズマト-チ,真空チャンバ,基板冷却ホルダおよび電磁コイルから構成され,最大830ガウスの磁場をプラズマジェット軸方向にその中心位置を変化させて印加できるようにした.まず,肉眼観察により,プラズマジェット生成部に磁場を印加するとプラズマジェット径は広がることを確認した.このときの基板の温度を熱電対で測定した結果,基板温度は基板中心部で一様になることがわかった.そして,磁場を印加してダイヤモンド合成を行うと,磁束密度の増加とともに膜厚および粒径が均一で,結晶の配向の変化が小さい均質な結晶性を有するダイヤモンド膜が合成されることを明らかにした.これらの基板温度や得られるダイヤモンドの均一化は,磁場の印加によりプラズマジェット内のアークが回転運動することにより,プラズマの温度が一様になり,ダイヤモンド合成に寄与する活性種の分布が均一になるためと考えられる.
CVD method is used to synthesize high-speed, crystalline and heterogeneous films with different thickness. This is the first time I've ever seen a woman. In this study, the influence of magnetic field on the structure and crystallinity of the film was studied by designing CVD devices for electromagnetic field synthesis. The influence of magnetic field on the synthesis of silicon dioxide by CVD method is discussed. Try to use the magnetic field of the CVD device DC voltage, vacuum voltage, substrate cooling and electromagnetic circuit structure, the maximum 830 degrees of magnetic field, the axis direction of the center position of the change. The human eye can detect and confirm the magnetic field of the generator. As a result of the measurement of the temperature of the substrate, the temperature of the substrate is different from that of the central part of the substrate. In addition, the magnetic field increases, the film thickness becomes uniform, the grain size becomes uniform, the crystal orientation becomes small, and the crystallinity becomes homogeneous. The temperature of the substrate is uniform, the magnetic field is uniform, the temperature of the substrate is uniform, and the active species are uniform.
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
平田 敦: "磁場援用アーク放電プラズマジェットCVD法によるダイヤモンド合成" 精密工学会誌. 62. 544-548 (1996)
Atsushi Hirata:“通过磁场辅助电弧放电等离子体喷射 CVD 方法合成金刚石”,日本精密工程学会杂志 62. 544-548 (1996)。
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