アーク放電プラズマを利用した大面積ダイヤモンド膜の気相合成
アーク放電プラズマを利用した大面積ダイヤモンド膜の気相合成
批准号:
05750111
负责人:
平田 敦
金额:
$0.7万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份:
1993
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1993 至 --
中文摘要
ダイヤモンド膜の合成面積拡大を目的に,新たに試作したアーク放電プラズマ装置によりプラズマ領域を拡大し,ダイヤモンド膜の合成面積拡大を試みた.さらに,ダイヤモンド膜の合成速度,形状について評価した.ダイヤモンドの合成面積を拡大するために,従来の3倍の30KWの放電電力でプラズマを安定に発生させることのできるアーク放電プラズマ装置を試作した.この装置は陰極ト-チを1つに対し,陽極ト-チを3つを直角に配置してある.また,これらのプラズマト-チは各々移動させることができ,放電距離を変えることができる.陰極と陽極の距離を広げることで生成されるプラズマの領域が拡大し,プラズマジェット径の拡大とともにダイヤモンド膜の合成面積は,雰囲気圧力200Torr,水素ガスに対するメタンガスの流量比4%で,直径約20mmから40mmの範囲まで拡大することを明らかにした.また,合成面積の拡大にはプラズマジェット径方向の放電距離を広げることがより有効であることがわかった.このとき,ダイヤモンドの合成速度は放電距離の増加とともに高くなり,膜厚も増加することがわかった.これは,放電距離の増加とともにプラズマ中で生成される活性種の量が増加するためであり,このことをプラズマの発光分光分析より明らかにした.しかし,プラズマト-チの配置に関わらず,得られるダイヤモンド膜の形状は中央部で厚く,周辺部で薄いものであった.また,合成時のチャンバ内圧力を14〜200Torrの間で変化させた結果,本装置では50Torrで合成速度が最大となることを見いだした.合成面積はチャンバ内圧力を低くするほど広がり,14Torrで直径65mmの基板全面にダイヤモンドが合成できることを明らかにした.
英文摘要
ダイヤモンド膜の合成面積拡大を目的に,新たに試作したアーク放電プラズマ装置によりプラズマ領域を拡大し,ダイヤモンド膜の合成面積拡大を試みた.さらに,ダイヤモンド膜の合成速度,形状について評価した.ダイヤモンドの合成面積を拡大するために,従来の3倍の30KWの放電電力でプラズマを安定に発生させることのできるアーク放電プラズマ装置を試作した.この装置は陰極ト-チを1つに対し,陽極ト-チを3つを直角に配置してある.また,これらのプラズマト-チは各々移動させることができ,放電距離を変えることができる.陰極と陽極の距離を広げることで生成されるプラズマの領域が拡大し,プラズマジェット径の拡大とともにダイヤモンド膜の合成面積は,雰囲気圧力200Torr,水素ガスに対するメタンガスの流量比4%で,直径約20mmから40mmの範囲まで拡大することを明らかにした.また,合成面積の拡大にはプラズマジェット径方向の放電距離を広げることがより有効であることがわかった.このとき,ダイヤモンドの合成速度は放電距離の増加とともに高くなり,膜厚も増加することがわかった.これは,放電距離の増加とともにプラズマ中で生成される活性種の量が増加するためであり,このことをプラズマの発光分光分析より明らかにした.しかし,プラズマト-チの配置に関わらず,得られるダイヤモンド膜の形状は中央部で厚く,周辺部で薄いものであった.また,合成時のチャンバ内圧力を14〜200Torrの間で変化させた結果,本装置では50Torrで合成速度が最大となることを見いだした.合成面積はチャンバ内圧力を低くするほど広がり,14Torrで直径65mmの基板全面にダイヤモンドが合成できることを明らかにした.
期刊论文(3)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
平田敦,吉川昌範: "1陰極-3陽極アーク放電プラズマによる大面積ダイヤモンド膜合成装置の試作" 精密工学会誌. 59. 838-843 (1993)
Atsushi Hirata、Masanori Yoshikawa:“使用一阴极三阳极电弧放电等离子体的大面积金刚石膜合成装置的原型”日本精密工程学会杂志 59. 838-843 (1993)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
A.HIRATA and M.YOSHIKAWA: "Effects of Process Pressure on Diamond Growth by Arc Discharge Plasma Jet CVD Method" 2nd Int.Conf.on the Applications of Diamond films and Related Materials. 469-474 (1993)
A.HIRATA 和 M.YOSHIKAWA:“工艺压力对电弧放电等离子喷射 CVD 方法金刚石生长的影响”第 2 届国际会议上金刚石薄膜和相关材料的应用。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
平田敦,吉川昌範: "生成ダイヤモンド膜に及ぼすアーク放電プラズマジェットCVD装置の電極位置の影響" 精密工学会誌. (印刷中).
Atsushi Hirata、Masanori Yoshikawa:“电弧放电等离子喷射 CVD 设备中的电极位置对所生产的金刚石薄膜的影响”,日本精密工程学会杂志(正在出版)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
無機ナノ粒子添加によるイオン液体ゲルの生成およびトライボロジー特性の解明
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批准号:22K03882
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.66万
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财政年份:2022
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负责人:平田 敦
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依托单位:
オニオン構造ナノ分子ベアリングによる高真空下固体潤滑システムに関する研究
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批准号:15760089
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额:$2.3万
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财政年份:2003
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负责人:平田 敦
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依托单位:
オニオン構造フラーレンの高速生成およびその潤滑材への適用
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批准号:12750091
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.41万
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财政年份:2000
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负责人:平田 敦
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依托单位:
気相合成ダイヤモンドの高出力炭酸ガスレーザ用レンズへの適用に関する研究
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批准号:09750133
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.41万
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财政年份:1997
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负责人:平田 敦
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依托单位:
磁場援用アーク放電プラズマによるダイヤモンドの気相合成に関する研究
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批准号:08750136
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.64万
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财政年份:1996
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负责人:平田 敦
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依托单位:
気相成長法による高強度透明ダイヤモンド板の合成に関する研究
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批准号:07750130
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1995
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负责人:平田 敦
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依托单位:
気相合成ダイヤモンド膜の光学材料への適用に関する研究
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批准号:06750116
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1994
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负责人:平田 敦
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依托单位:
海外基金