Fabrication of two-dimensional superconductors at the graphene/SiC interface by the intercalation technique

利用插层技术在石墨烯/SiC界面制备二维超导体

基本信息

  • 批准号:
    22KJ1535
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.41万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 财政年份:
    2023
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2023-03-08 至 2024-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

本研究の目的は、二次元超伝導物質FeSeをグラフェン/SiC界面に安定的に作製する手法を確立することである。令和3年度ではFeSe作製の前段階として、Feインターカレーションによるグラフェン/SiC界面でのFe二次元膜作製を試みた。令和4年度では引き続きFeインターカレーションに着目するとともに、得られた試料をSe雰囲気中で加熱するための装置の開発にも注力した。Feインターカレーションの実験手順としては、SiC単結晶基板の表面に均質に作製した炭素原子層に対してFe蒸着を行い、高真空中で加熱した。蒸着膜厚と加熱温度をパラメータとして条件検討を行った結果、Feインターカレーションのための最適な実験条件が明らかとなってきた。得られた試料に対して透過型電子顕微鏡を用いて界面構造の直接観察を行った結果、実際にグラフェン/SiC界面でFeが二次元的に形成していることが確認された。今後はより詳細な条件検討を行い、さらに高品質かつ均質な試料の作製を目指す。このような試料では磁気異方性や電子構造の変調といった興味深い物性が発現する可能性があるため、物性評価にも集中的に取り組む予定である。また、次のステップとして、Feインターカレーションを施した試料をSe雰囲気中で加熱する実験を行う予定であるが、そのための装置開発も行った。予備実験の結果、試料の表面に対してSeを反応させられることが明らかとなった。今後はこの装置の改良を進め、本研究の最終目標であるFeSe作製に本格的に取り組む。
The purpose of this study is to establish a stable fabrication method for the two-dimensional superconducting material FeSe をグラフェン/SiC interface. In the third year of Reiwa, the preliminary stage of FeSe production and the FeSe two-dimensional film production trial for FeSe interface were carried out. Reiwa 4th year's ではuhinき続きFeインターカレーションに目するとともに, The sample was obtained by heating the sample in the atmosphere and heating the device. The surface of the Fe インターカレーションの実験shunshunとしては, SiC single crystal substrate Homogeneous production of carbon atomic layers, steaming of Fe, and heating in high vacuum. Evaporated film thickness and heating temperature, conditions, conditions, results, Feインターカレーションのためのoptimal な実験conditionsが明らかとなってきた. Obtained the result of direct observation using the interface structure of the transmission electron microscope using the られた sample. The formation of the two-dimensional Fe and SiC interface has been confirmed. From now on, we will discuss the details of the conditions and the preparation of high-quality and homogeneous samples.このようなSample ではMagnetic anisotropy やElectronic structure の変tun といったInteresting いPhysical properties がIt is possible to realize the possibility, and the physical property evaluation is concentrated and the combination is determined. Se The heating system in the atmosphere is set and the heating system is set and the heating system is opened. The results of the preparation are prepared, and the surface of the sample is the same as the surface of the sample. In the future, we will continue to improve the device, and the ultimate goal of this research is to produce FeSe based on the original structure.

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
4H-SiC基板表面におけるステップアンバンチング現象
4H-SiC衬底表面台阶解聚现象
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    榊原涼太郎;乗松航
  • 通讯作者:
    乗松航
Microscopic mechanism of hydrogen intercalation: On the conversion of the buffer layer on SiC to graphene
氢插层的微观机制:SiC缓冲层向石墨烯的转化
  • DOI:
    10.1103/physrevb.105.235442
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    3.7
  • 作者:
    Sakakibara Ryotaro;Norimatsu Wataru
  • 通讯作者:
    Norimatsu Wataru
Microscopic mechanism of hydrogen intercalation in graphene/SiC (0001)
石墨烯/SiC (0001) 中氢插层的微观机制
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    榊原涼太郎;乗松航;Ryotaro Sakakibara and Wataru Norimatsu
  • 通讯作者:
    Ryotaro Sakakibara and Wataru Norimatsu
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