Creation of Nanofabrication process for extreme quantum beam using organic-inorganice hybrid nanoparticles

使用有机-无机杂化纳米粒子创建极端量子束的纳米制造工艺

• 批准号: 26706027
• 负责人: YAMAMOTO HIROKI
• 金额: $ 15.56万
• 依托单位: Osaka University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
• 财政年份: 2014
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2014-04-01 至 2017-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-26706027/
• 关键词: 量子ビーム; 極端紫外光リソグラフィ; 電子線リソグラフィ; 半導体微細化; リソグラフィ; ナノ材料; 半導体超微細化; 放射線; 材料加工・処理

项目成果

Controlled Array of Gold Nanoparticles by Combination of Nano Imprint and Self-assembly

通过纳米压印和自组装相结合控制金纳米粒子阵列

• DOI: 10.2494/photopolymer.29.765
• 发表时间: 2016
• 期刊: Journal of Photopolymer Science and Technology
• 影响因子: 0.8
• 作者: Hiroki Yamamoto;Akira Ohnuma;Bunsho Ohtani;Takahiro Kozawa
• 通讯作者: Takahiro Kozawa

環状オリゴマーに基づいた化学増幅型分子レジストのレジスト性能評価に関する研究

基于环状低聚物的化学放大型分子光刻胶性能评价研究

• 发表时间: 2014
• 作者: Hiroki Yamamoto;Takahiro Kozawa;山本 洋揮
• 通讯作者: 山本 洋揮

Study on Dissolution Behavior of Poly(4-hydroxystyrene) as Model Polymer of Chemically Amplified Resists for Extreme Ultraviolet Lithography

聚(4-羟基苯乙烯)作为极紫外光刻化学放大光刻胶模型聚合物溶解行为的研究

• 发表时间: 2015
• 期刊: J. Photopolym. Sci. Technol.
• 作者: M. Mitsuyasu;H. Yamamoto;and T. Kozawa
• 通讯作者: and T. Kozawa

微細加工技術による金属ナノ粒子の位置制御

利用微加工技术控制金属纳米粒子的位置

• 发表时间: 2015
• 作者: Hiroki Yamamoto;Hiroto Kudo;Takahiro Kozawa;山本洋揮
• 通讯作者: 山本洋揮

Molecular Resist Materials for Extreme Ultraviolet Lithography

用于极紫外光刻的分子抗蚀剂材料

• 发表时间: 2016
• 作者: H. Yamamoto;H. Kudo;and T. Kozawa
• 通讯作者: and T. Kozawa