Creation of Nanofabrication process for extreme quantum beam using organic-inorganice hybrid nanoparticles
Creation of Nanofabrication process for extreme quantum beam using organic-inorganice hybrid nanoparticles
批准号:
26706027
负责人:
YAMAMOTO HIROKI
金额:
$15.56万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
财政年份:
2014
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2014-04-01 至 2017-03-31
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Controlled Array of Gold Nanoparticles by Combination of Nano Imprint and Self-assembly
通过纳米压印和自组装相结合控制金纳米粒子阵列
DOI:
10.2494/photopolymer.29.765
发表时间:
2016
期刊:
Journal of Photopolymer Science and Technology
影响因子:
0.8
作者:
[Hiroki Yamamoto, Akira Ohnuma, Bunsho Ohtani, Takahiro Kozawa]
通讯作者:
Takahiro Kozawa
環状オリゴマーに基づいた化学増幅型分子レジストのレジスト性能評価に関する研究
基于环状低聚物的化学放大型分子光刻胶性能评价研究
DOI:
--
发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Hiroki Yamamoto, Takahiro Kozawa, 山本 洋揮]
通讯作者:
山本 洋揮
Study on Dissolution Behavior of Poly(4-hydroxystyrene) as Model Polymer of Chemically Amplified Resists for Extreme Ultraviolet Lithography
聚(4-羟基苯乙烯)作为极紫外光刻化学放大光刻胶模型聚合物溶解行为的研究
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
J. Photopolym. Sci. Technol.
影响因子:
--
作者:
[M. Mitsuyasu, H. Yamamoto, and T. Kozawa]
通讯作者:
and T. Kozawa
微細加工技術による金属ナノ粒子の位置制御
利用微加工技术控制金属纳米粒子的位置
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Hiroki Yamamoto, Hiroto Kudo, Takahiro Kozawa, 山本洋揮]
通讯作者:
山本洋揮
Molecular Resist Materials for Extreme Ultraviolet Lithography
用于极紫外光刻的分子抗蚀剂材料
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[H. Yamamoto, H. Kudo, and T. Kozawa]
通讯作者:
and T. Kozawa
共 8 条
Creation and Control of Metal Nano-structure Using Combination of Top-down and Bottom up Nanofabrication
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批准号:24656447
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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资助金额:$2.66万
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财政年份:2012
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负责人:YAMAMOTO HIROKI
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依托单位: