Nanocomposite piezoresistive thin films of metal containing amorphous carbon

在这种德国-以色列合作中，韦尔登异源Dünnschichten mit hoher piezoelectric Empfindlichkeit und temperaturinvarianter Leitfähigkeit hergestellt und untersucht。Die Combination aus hoher Dehnungsempfindlichkeit und constantem Widerstand ist hochattraktiv für Sensorzwecke.我们主要研究镍合金（Ni：a-C：H）的工作。这是一种来自基督教金属簇的最好的形式，这种来自小原子的石墨化的柯伦斯托夫是最好的。在此之前，这些项目将在30天内完成. Dies bedutet eine Steigerung um den Faktor 15 gegenüber den heute verwendeten metallischen DMS-Materialien.宽支架的温度系数（TKR）在一个韦尔登范围内可以达到0 ~ 50 ppm/K。用PECVD和CO-Sputterverfaetzt技术可以实现等离子体物理过程. Die Herausforderung besteht in der Aufklärung der strukturellen，physikalischen Ursachen für die hohe Empfindlichkeit der Schichten. Weitere aufwendige Querschnitts-TEM Untersuchungen韦尔登durchgeführt um die entdeckten unterschedlichen Zonen und die säulenförmige Wachstumsstruktur der Nickelpartikel zu verifizieren. Des Weiteren sind Untersuchungen der Schichtspannungen，der thermischen Ausdehnungskoeffizienten sowie der frequenzabhängigen elektrischen Leitfähigkeit mit und ohne Belastung geplant.

In dieser deutsch-israelischen Kooperation werden heterogene Dünnschichten mit hoher piezoresistiver Empfindlichkeit und temperaturinvarianter Leitfähigkeit hergestellt und untersucht. Die Kombination aus hoher Dehnungsempfindlichkeit und konstantem Widerstand ist hochattraktiv für Sensorzwecke. Wir fokussieren die Arbeit auf nickelhaltige Kohlenstoffschichten (Ni:a-C:H). Die Schichten bestehen aus kristallinen Metallclustern, die von wenigen atomaren Lagen graphitartigem Kohlenstoff umhüllt sind. Im Rahmen dieses Projekts wurden bis dato Dehnungsempfindlichkeiten (k- Faktoren) von bis zu 30 erreicht. Dies bedeutet eine Steigerung um den Faktor 15 gegenüber den heute verwendeten metallischen DMS-Materialien. Der Temperaturkoeffizient des Widerstands (TKR) kann auf 050 ppm/K in einem weiten Temperaturbereich eingestellt werden. Es werden plasmaphysikalische Beschichtungsprozesse wie PECVD mit kohlenstoffhaltigen Precursorgasen sowie Co- Sputterverfahren eingesetzt. Die Herausforderung besteht in der Aufklärung der strukturellen, physikalischen Ursachen für die hohe Empfindlichkeit der Schichten. Weitere aufwendige Querschnitts-TEM Untersuchungen werden durchgeführt um die entdeckten unterschiedlichen Zonen und die säulenförmige Wachstumsstruktur der Nickelpartikel zu verifizieren. Des Weiteren sind Untersuchungen der Schichtspannungen, der thermischen Ausdehnungskoeffizienten sowie der frequenzabhängigen elektrischen Leitfähigkeit mit und ohne Belastung geplant.