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Development of 1X nm EUV Resist with high sensitivity and Low LWR

Development of 1X nm EUV Resist with high sensitivity and Low LWR
开发高灵敏度、低 LWR 的 1X nm EUV 光刻胶
批准号：
25289106
负责人：
Watanabe Takeo
金额：
$11.56万
依托单位：
University of Hyogo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2013
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2013-04-01 至 2016-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-25289106/
关键词：
半導体微細加工極端紫外線リソグラフィEUVレジスト感度解像度LWRアウトガス軟X線光電子分光非化学増幅系レジスト化学増幅系レジスト金属レジストEUVリソグラフィレジスト高感度軟Ｘ線吸収分光

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EUV Resist Chemical Reaction Analysis using SR
使用 SR 进行 EUV 抗蚀剂化学反应分析
DOI： --
发表时间： 2013
期刊：
影响因子： --
作者： [Takeo Watanabe, Kazuya Emura, Daiji Shiono, Yuichi Haruyama, Yasuji Muramatsu, Katsumi Ohmori, Kazufumi Sato, Tetsuo Harada and Hiroo Kinoshita]
通讯作者： Tetsuo Harada and Hiroo Kinoshita
軟Ｘ線吸収分光法を用いたEUV用PHS系化学増幅系レジストの反応解析
使用软 X 射线吸收光谱对基于 PHS 的 EUV 化学放大抗蚀剂进行反应分析
DOI： --
发表时间： 2015
期刊：
影响因子： --
作者： [渡邊健夫]
通讯作者： 渡邊健夫
1X nm HPレジスト評価用EUV二光束干渉露光系の透過型回折格子の製作
用于 EUV 双光束干涉曝光系统的透射光栅的制造，用于 1X nm HP 抗蚀剂评估
DOI： --
发表时间： 2015
期刊：
影响因子： --
作者： [福田裕貴, 福井　翼, 谷野寛仁, 九鬼真輝, 渡邊健夫, 木下博雄, 原田哲男]
通讯作者： 原田哲男
Soft X-ray Absorption Spectroscopy using SR for EUV Resist Chemical Reaction Analysis
使用 SR 进行 EUV 抗蚀剂化学反应分析的软 X 射线吸收光谱
DOI： --
发表时间： 2015
期刊：
影响因子： --
作者： [A. Ikeda, R. Sumina, H. Ikenoue, T. Asano, M.Hatano, 前田祐作; 寺尾京平; 鈴木孝明; 下川房男; 高尾英邦, Takeo Watanabe]
通讯作者： Takeo Watanabe
共 24 条
    A Study on Sampling Mechanism Using Japanese Swordsmithing Technology for Asteroid Sample Return
    Theoretical and empirical research on the influence function of management accounting system
    • 批准号：
      26380620
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $2.91万
    • 财政年份：
      2014
    • 负责人：
      Watanabe Takeo
    • 依托单位：
      Chuo University