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Development of 1X nm EUV Resist with high sensitivity and Low LWR

开发高灵敏度、低 LWR 的 1X nm EUV 光刻胶

基本信息

批准号：
25289106
负责人：
Watanabe Takeo
金额：
$ 11.56万
依托单位：
University of Hyogo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2013
资助国家：
日本
起止时间：
2013-04-01 至 2016-03-31
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-25289106/
关键词：
半導体微細加工極端紫外線リソグラフィ EUVレジスト感度解像度 LWR アウトガス軟X線光電子分光非化学増幅系レジスト化学増幅系レジスト金属レジスト EUVリソグラフィレジスト高感度軟Ｘ線吸収分光

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（0）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

EUV Resist Chemical Reaction Analysis using SR

使用 SR 进行 EUV 抗蚀剂化学反应分析

DOI：
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
0
作者：
Takeo Watanabe;Kazuya Emura;Daiji Shiono;Yuichi Haruyama;Yasuji Muramatsu;Katsumi Ohmori;Kazufumi Sato;Tetsuo Harada and Hiroo Kinoshita
通讯作者：
Tetsuo Harada and Hiroo Kinoshita

軟Ｘ線吸収分光法を用いたEUV用PHS系化学増幅系レジストの反応解析

使用软 X 射线吸收光谱对基于 PHS 的 EUV 化学放大抗蚀剂进行反应分析

DOI：
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
0
作者：
渡邊健夫
通讯作者：
渡邊健夫

1X nm HPレジスト評価用EUV二光束干渉露光系の透過型回折格子の製作

用于 EUV 双光束干涉曝光系统的透射光栅的制造，用于 1X nm HP 抗蚀剂评估

DOI：
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
0
作者：
福田裕貴;福井　翼;谷野寛仁;九鬼真輝;渡邊健夫;木下博雄;原田哲男
通讯作者：
原田哲男

Soft X-ray Absorption Spectroscopy using SR for EUV Resist Chemical Reaction Analysis

使用 SR 进行 EUV 抗蚀剂化学反应分析的软 X 射线吸收光谱

DOI：
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
0
作者：
A. Ikeda;R. Sumina;H. Ikenoue;T. Asano;M.Hatano;前田祐作; 寺尾京平; 鈴木孝明; 下川房男; 高尾英邦;Takeo Watanabe
通讯作者：
Takeo Watanabe

Recent Activities of the Actinic Mask Inspection using the EUV Microscope at Center for EUVL

EUVL 中心使用 EUV 显微镜进行光化掩模检查的最新活动

DOI：
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
0
作者：
Takeo Watanabe;Tetsuo Harada;and Hiroo Kinoshita
通讯作者：
and Hiroo Kinoshita

DOI：
{{ item.doi }}
发表时间：
{{ item.publish_year }}
期刊：
{{ item.journal_name }}
影响因子：
{{ item.factor }}
作者：
{{ item.authors }}
通讯作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ monograph.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ sciAawards.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ conferencePapers.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ patent.updateTime }}

Watanabe Takeo其他文献

Analysis of Chemical Contents Spatial Distribution in EUV Resist Using Resonant Soft X-ray Scattering Method

采用共振软 X 射线散射法分析 EUV 光刻胶中化学成分的空间分布

DOI：
10.2494/photopolymer.33.491
发表时间：
2020
期刊：
Journal of Photopolymer Science and Technology
影响因子：
0.8
作者：
Tanaka Jun;Ishiguro Takuma;Harada Tetsuo;Watanabe Takeo
通讯作者：
Watanabe Takeo

Fundamental research activities on EUV lithography at NewSUBARU synchrotron light facility

NewSUBARU 同步加速器光设施的 EUV 光刻基础研究活动

DOI：
10.1117/12.2600896
发表时间：
2021
期刊：
SPIE Proc.
影响因子：
0
作者：
Watanabe Takeo;Harada T.;Yamakawa S.
通讯作者：
Yamakawa S.

Resonant Soft X-ray Reflectivity for the Chemical Analysis in Thickness Direction of EUV Resist

用于 EUV 光刻胶厚度方向化学分析的共振软 X 射线反射率

DOI：
10.2494/photopolymer.32.333
发表时间：
2019
期刊：
Journal of Photopolymer Science and Technology
影响因子：
0.8
作者：
Ishiguro Takuma;Tanaka Jun;Harada Tetsuo;Watanabe Takeo
通讯作者：
Watanabe Takeo

Visual perceptual learning of a primitive feature in human V1/V2 as a result of unconscious processing, revealed by Decoded fMRI Neurofeedback (DecNef)

解码 fMRI 神经反馈 (DecNef) 揭示了无意识处理导致的人类 V1/V2 原始特征的视觉感知学习

DOI：
10.1101/2020.11.30.405209
发表时间：
2020
期刊：
bioRxiv
影响因子：
0
作者：
Wang Zhiyan;Tamaki Masako;Shibata Kazuhisa;Worden Michael S.;Yamada Takashi;Kawato Mitsuo;Sasaki Yuka;Watanabe Takeo
通讯作者：
Watanabe Takeo

デュアルコム分光のための近赤外光周波数コムの可視化

用于双梳光谱的近红外光学频率梳的可视化

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
Kudo Hiroto;Fukunaga Mari;Yamada Teppei;Yamakawa Shinji;Watanabe Takeo;Yamamoto Hiroki;Okamoto Kazumasa;Kozawa Takahiro;加藤英毅，池田孝介，佐藤航己，郷治侑真，大久保章，稲場肇，吉井一倫，洪鋒雷
通讯作者：
加藤英毅，池田孝介，佐藤航己，郷治侑真，大久保章，稲場肇，吉井一倫，洪鋒雷