Nanomaterials for Smart Data Storage

用于智能数据存储的纳米材料

基本信息

  • 批准号:
    EP/N510063/1
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 26.91万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    英国
  • 项目类别:
    Research Grant
  • 财政年份:
    2016
  • 资助国家:
    英国
  • 起止时间:
    2016 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

Demand for data storage continues to grow at over 40% per annum, in part as a result of increasing movement of data tothe cloud. All segments of the hard drive market remain in demand and the recording transducer is critical for storagecapacity. A total of 25% of the world's transducers are manufactured in the UK thus we have a unique opportunity to growthis market as demand for this highly complex nanoengineered component increases. This project will deliver smartnanophotonic materials to be used in the writer for the next hard drive technology transition using Heat Assisted MagneticRecording, due in 2018. The very high performance demands and fluctuating operating temperature make reliableoperation difficult to achieve in prototype devices today. The solution is to make this key component from smart materialswhich self-compensate for these thermal effects as well as providing other functionality. The UK has world class capabilityin the area of nanophotonics (UoS) and material discovery and optimization (Ilika) and this project provides an opportunityto develop these materials for improved product performance and competitiveness for the manufacturing business of enduser Seagate.
对数据存储的需求持续以每年 40% 以上的速度增长,部分原因是越来越多的数据向云端移动。硬盘驱动器市场的所有细分市场仍然有需求,而记录传感器对于存储容量至关重要。世界上总共 25% 的传感器是在英国制造的,因此随着对这种高度复杂的纳米工程组件的需求的增加,我们拥有独特的市场增长机会。该项目将提供智能纳米光子材料,用于写入器,以便于 2018 年使用热辅助磁记录进行下一次硬盘驱动器技术转型。非常高的性能要求和波动的工作温度使得当今的原型设备难以实现可靠的操作。解决方案是用智能材料制造这个关键部件,它可以自我补偿这些热效应并提供其他功能。英国在纳米光子学 (UoS) 以及材料发现和优化 (Ilika) 领域拥有世界一流的能力,该项目提供了开发这些材料的机会,以提高最终用户希捷制造业务的产品性能和竞争力。

项目成果

期刊论文数量(9)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Large scale CVD 2D heterostructures
大规模 CVD 二维异质结构
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Nikolaos Aspiotis
  • 通讯作者:
    Nikolaos Aspiotis
Advanced CVD technology for emerging transition metal di-chalcogenides
用于新兴过渡金属二硫属化物的先进 CVD 技术
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Huang, C.C.
  • 通讯作者:
    Huang, C.C.
Enhanced all-optical modulation in a graphene-coated fibre with low insertion loss.
  • DOI:
    10.1038/srep23512
  • 发表时间:
    2016-03-22
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4.6
  • 作者:
    Zhang H;Healy N;Shen L;Huang CC;Hewak DW;Peacock AC
  • 通讯作者:
    Peacock AC
Chemical vapor deposition and Van der Waals epitaxy for wafer-scale emerging 2D transition metal di-chalcogenides
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Chung-Che Huang
  • 通讯作者:
    Chung-Che Huang
Phase engineering of tin sulphide grown by atmospheric pressure chemical vapour deposition at ambient temperature
常温常压化学气相沉积生长硫化锡的相工程
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Alzaidy, Ghadah,
  • 通讯作者:
    Alzaidy, Ghadah,
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  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 26.91万
  • 项目类别:
    Standard Grant
Collaborative Research: Research Infrastructure: CCRI:New: Data-Driven Cybersecurity Research Infrastructure for Smart Manufacturing
合作研究:研究基础设施:CCRI:新:数据驱动的智能制造网络安全研究基础设施
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  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 26.91万
  • 项目类别:
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  • 批准号:
    10049051
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 26.91万
  • 项目类别:
    EU-Funded
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  • 批准号:
    900240
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 26.91万
  • 项目类别:
    Collaborative R&D
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知道了