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Low permittivity dielectric materials for integrated circuit processing

Low permittivity dielectric materials for integrated circuit processing
用于集成电路加工的低介电常数介电材料
批准号：
229137-2000
负责人：
Sivoththaman, Sivanarayana
金额：
$1.37万
依托单位：
University of Waterloo
依托单位国家：
加拿大
项目类别：
Discovery Grants Program - Individual
财政年份：
2000
资助国家：
加拿大
项目状态：
已结题
起止时间：
2000-01-01 至 2001-12-31
来源：
https://www.nserc-crsng.gc.ca/ase-oro/Details-Detailles_eng.asp?id=176998
关键词：
Lowpermittivitydielectricmaterialsintegrated

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Technologies for advanced and cost effective photovoltaic solar cells
  • 批准号：
    257592-2002
  • 项目类别：
    Strategic Projects - Group
  • 资助金额：
    $3.4万
  • 财政年份：
    2002
  • 负责人：
    Sivoththaman, Sivanarayana
  • 依托单位：
    University of Waterloo
NSERC/COM DEV Industrial Research Chair in Filter and switch technologies
  • 批准号：
    261166-2002
  • 项目类别：
    Industrial Research Chairs
  • 资助金额：
    $10.14万
  • 财政年份：
    2002
  • 负责人：
    Sivoththaman, Sivanarayana
  • 依托单位：
    University of Waterloo
Low permittivity dielectric materials for integrated circuit processing
  • 批准号：
    229137-2000
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额：
    $1.37万
  • 财政年份：
    2002
  • 负责人：
    Sivoththaman, Sivanarayana
  • 依托单位：
    University of Waterloo
Low permittivity dielectric materials for integrated circuit processing
  • 批准号：
    229137-2000
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额：
    $1.37万
  • 财政年份：
    2001
  • 负责人：
    Sivoththaman, Sivanarayana
  • 依托单位：
    University of Waterloo
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